[发明专利]一种微透镜面型刻蚀工艺方法在审
| 申请号： | 202310483656.2 | 申请日： | 2023-04-28 |
| 公开（公告）号： | CN116577853A | 公开（公告）日： | 2023-08-11 |
| 发明（设计）人： | 罗妮;王晓锋;陈金珠 | 申请（专利权）人： | 华天慧创科技(西安)有限公司 |
| 主分类号： | G02B3/00 | 分类号： | G02B3/00 |
| 代理公司： | 西安通大专利代理有限责任公司 61200 | 代理人： | 马贵香 |
| 地址： | 710018 陕西省西*** | 国省代码： | 陕西;61 |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 一种 透镜 刻蚀 工艺 方法 | ||
1.一种微透镜面型刻蚀工艺方法，其特征在于，包括如下步骤：
步骤1，用硅基底镜片做基底，在硅基底镜片一面涂覆光学透明胶水，静置待光学透明胶水形成胶状后通过印模在光学透明胶水上压印，得到带有第一目标面型的纳米压印半成品；
步骤2，在硅基底镜片的另一面涂覆光学透明胶水，静置待光学透明胶水形成胶状后通过印模在光学透明胶水上压印，得到带有第二目标面型的纳米压印半成品；
步骤3，对纳米压印半成品的第一目标面型和第二目标面型依次进行干法刻蚀、清洗、镀膜工艺得到微透镜阵列镜头；
步骤4，对微透镜阵列镜头进行切割得到镜头单体，完成微透镜面型刻蚀工艺工作。
2.根据权利要求1所述的一种微透镜面型刻蚀工艺方法，其特征在于，所述印模的面型类型包括球面、非球面、自由曲面、棱镜、柱面镜或菲涅尔透镜。
3.根据权利要求1所述的一种微透镜面型刻蚀工艺方法，其特征在于，所述印模的模具面型精度＜0.1μm。
4.根据权利要求1所述的一种微透镜面型刻蚀工艺方法，其特征在于，所述印模在光学透明胶水上进行纳米压印工艺的面型精度＜0.5μm，面型矢高为回流工艺矢高3X，对位精度＜5μm。
5.根据权利要求1所述的一种微透镜面型刻蚀工艺方法，其特征在于，步骤2后，对纳米压印半成品进行UV固化并烘烤。
6.根据权利要求1所述的一种微透镜面型刻蚀工艺方法，其特征在于，步骤3中，对纳米压印半成品的第一目标面型和第二目标面型依次进行干法刻蚀工艺的面型精度＜3μm。
7.根据权利要求1所述的一种微透镜面型刻蚀工艺方法，其特征在于，步骤3中，对纳米压印半成品的第一目标面型和第二目标面型依次进行干法刻蚀工艺的对位精度＜5μm。
8.根据权利要求1所述的一种微透镜面型刻蚀工艺方法，其特征在于，步骤3中，对纳米压印半成品的第一目标面型和第二目标面型在进行镀膜处理中，用于提升基底透过率，其中，透过率＞95％。
9.根据权利要求1所述的一种微透镜面型刻蚀工艺方法，其特征在于，压印的模具采用玻璃模具或者金属模具。
10.根据权利要求1所述的一种微透镜面型刻蚀工艺方法，其特征在于，第一目标面型和第二目标面型均与印模的翻印压印面型对应。
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