[发明专利]片上系统、中断隔离方法及计算机设备在审

专利信息
申请号: 202310486128.2 申请日: 2023-04-28
公开(公告)号: CN116578530A 公开(公告)日: 2023-08-11
发明(设计)人: 陈志星;郑文斌 申请(专利权)人: 平头哥(上海)半导体技术有限公司
主分类号: G06F15/78 分类号: G06F15/78;G06F9/48
代理公司: 北京太合九思知识产权代理有限公司 11610 代理人: 孙明子;刘戈
地址: 201207 上海市浦东新区(上海)*** 国省代码: 上海;31
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要:
搜索关键词: 系统 中断 隔离 方法 计算机 设备
【说明书】:

本申请提供了一种片上系统、中断隔离方法及计算机设备,属于计算机技术领域。系统包括:中断控制器、基于RISC‑V架构的处理器及片内总线,中断控制器与处理器通过片内总线连接;中断控制器,用于存储不同执行环境对应的执行环境标识,并在接收到第一中断指令后,将第一中断指令发送至处理器,第一中断指令中携带目标中断源标识;处理器,用于响应于第一中断指令,从中断控制器中获取目标中断源标识对应的第一执行环境标识,并在第一执行环境标识与第二执行环境标识相同的情况下,在当前执行环境的相应执行域内执行第一中断指令,第二执行环境标识为当前执行域所属执行环境的执行环境标识。本申请能够提高中断指令的响应速度,缩短中断延迟。

技术领域

本申请涉及计算机技术领域,特别涉及一种片上系统、中断隔离方法及计算机设备。

背景技术

基于RISC-V(Reduced Instruction Set Computing-Five,第五代精简指令集)的处理器通过配置PLIC(Platform-Level Interrupt Controller,平台级中断控制器)和TF(Trusted Firmware,可信固件),能够实现REE(Rich Execution Environment,通用执行环境)和TEE(Trusted Execution Environment,可信执行环境)的中断隔离。

通常不同的执行环境对应不同的执行域,不同执行域之间需要进行中断隔离。为实现不同执行域的隔离,PLIC将外部的中断源均配置成机器模式(Machine Mode,简称M模式)。当接收到中断源的中断指令后,处理器切换至M模式,由运行在M模式的可信固件识别出该中断指令的中断源所属的执行域,将该中断指令转发至该执行域,然后处理器切换至超级用户模式(Supervisor Mode,简称S模式),由该执行域对应的操作系统执行该中断指令。

上述中断指令的处理需要借助可信固件进行转发,导致中断指令的响应速度较慢,中断响应延迟较大。

发明内容

本申请实施例提供了一种片上系统、中断隔离方法及计算机设备,能够提高中断指令的响应速度,缩短中断响应延迟。所述技术方案如下:

第一方面,提供了一种片上系统,所述系统包括:中断控制器、处理器及片内总线,所述中断控制器与所述处理器通过所述片内总线连接;

所述中断控制器,用于存储不同执行环境对应的执行环境标识,并在接收到第一中断指令后,将所述第一中断指令发送至所述处理器;

所述处理器,用于响应于所述第一中断指令,从所述中断控制器中获取所述第一中断指令对应的第一执行环境标识,并在所述第一执行环境标识与第二执行环境标识相同的情况下,在当前执行环境的相应执行域内执行所述第一中断指令,所述第二执行环境标识为当前执行域所属执行环境的执行环境标识。

第二方面,提供了一种中断隔离方法,所述方法应用于第一方面所述的片上系统,所述方法包括:

接收第一中断指令;

获取所述第一中断指令对应的第一执行环境标识;

在所述第一执行环境标识与第二执行环境标识相同的情况下,在所述当前执行环境的相应执行域内执行所述第一中断指令,所述第二执行环境标识为当前执行域所属的执行环境的执行环境标识。

第三方面,提供了一种片上系统,所述系统包括:中断控制器、处理器及片内总线,所述中断控制器与所述处理器通过所述片内总线连接;

所述中断控制器,用于存储不同执行环境对应的执行环境标识,并在接收到第一中断指令后,获取所述第一中断指令对应的第一执行环境标识,将所述第一执行环境标识添加到所述第一中断指令中,得到第二中断指令,将所述第二中断指令发送至所述处理器;

下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于平头哥(上海)半导体技术有限公司,未经平头哥(上海)半导体技术有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/202310486128.2/2.html,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top