[发明专利]一种等离子体射流产业应用装置和方法

权利要求书

1.一种等离子体射流产业应用装置，其特征在于，包括连通在一起而形成一个气体循环系统的组分注入及调节腔、放电腔、压强平衡腔和气体循环动力装置，所述组分注入及调节腔用于向气体循环系统内注入工作气体及气体组分的实时调节，保持工作气体组分稳定，在所述放电腔内生成弥散状等离子体射流，所述压强平衡腔用于平衡气体循环系统内的压强，所述气体循环动力装置用于提供气体循环的动力，重复利用工作气体。

2.如权利要求1所述的等离子体射流产业应用装置，其特征在于，所述放电腔包括出口位于所述放电腔内的射流管，所述射流管的出口喷出的气体在所述放电腔的封闭空间内形成向所述射流管的出口处流动的回环气流，生成所述弥散状等离子体射流。

3.如权利要求1所述的等离子体射流产业应用装置，其特征在于，所述压强平衡腔设置单向阀，以维持循环系统内压强为大气压。

4.如权利要求1所述的等离子体射流产业应用装置，其特征在于，等离子体处理过程中，通过所述组分注入及调节腔在任意时刻通入气体，调节等离子体射流中的活性物质的种类和/或浓度，实现不同等离子体改性效果的不间断切换处理。

5.如权利要求1所述的等离子体射流产业应用装置，其特征在于，所述组分注入及调节腔设置有稀有气体进气口和掺杂气体进气口，还可通过前述的进气口或可通过进一步增加的进气口来进行更多种气体组分的注入及调节。

6.如权利要求5所述的等离子体射流产业应用装置，其特征在于，所述组分注入及调节腔注入的掺杂气体为气体分子可被通入的稀有气体的亚稳态原子电离的单一气体或混合气体。

7.如权利要求1至6任一项所述的等离子体射流产业应用装置，其特征在于，可通过改变以下任一种或多种因素来调节等离子体射流的生成特性：放电电源的参数、电极结构、数量、工作气体的种类、组分及其比例，放电腔、组分注入及调节腔、压强平衡腔的结构和数量，气体循环动力装置的驱动方式、气体的循环流速。

8.一种等离子体射流产业应用方法，其特征在于，使用如权利要求1至7任一项所述的等离子体射流产业应用装置来进行等离子体射流应用。

9.如权利要求8所述的等离子体射流产业应用方法，其特征在于，所述等离子体射流可应用于包括能源催化转化、材料表面改性、生物医学消毒、污染处理在内的多个领域的产业应用。