[发明专利]电光晶体光轴对准系统及方法

说明书

本申请提供一种电光晶体光轴对准系统及方法，属于光学对准技术领域。该系统包括：分光装置、第一反射装置、第一透镜、第二反射装置以及光学处理设备。分光装置用于将来自光束产生装置的原始光束拆分为第一光束和第二光束；第一反射装置用于将第一光束的反射光束射入分光装置；第二反射装置用于将第二光束的折射光的反射光束射入第一透镜；分光装置还用于将第一光束的反射光束和准直后反射光束反射到光学处理设备；光学处理设备用于基于干涉图像确定待对准电光晶体的光轴是否对准，并在待对准电光晶体的光轴对准时记录待对准电光晶体的目标位姿，并控制待对准电光晶体处于目标位姿。可以达到在确保对准精度的同时还能提高适用性、降低成本的效果。

技术领域

本申请涉及光学对准技术领域，具体而言，涉及一种电光晶体光轴对准系统及方法。

背景技术

随着光学技术和电子技术的快速发展，偏振光学系统、红外测量系统、激光三维成像系统、量子通信系统等系统也得到了长足发展，而电光晶体是这些光学系统中非常重要的元件。由于电光晶体是各向异性介质，因此在光学系统中设置电光晶体时需要将电光晶体的光轴与光学系统的光轴对准。

相关技术中，可以通过在电光晶体的反射面的一侧设置多组对称的发射点，并通过调整电光晶体的位置以各组发射点对应的反射光汇聚在一个反射共点的方式使得电光晶体的光轴与光学系统的光轴对准，或者基于在光学系统中设置自准直仪对电光晶体的光轴进行对准。

然而，由于相关技术中基于反射共点的方式存在对准精度较差的问题，基于自准直仪的方式存在适用性差、成本高的问题。因此，在对电光晶体的光轴进行对准时，如何兼顾对准精度、成本和适用性成为了当前亟待解决的问题。

发明内容

本申请的目的在于提供一种电光晶体光轴对准系统及方法，可以达到在确保对准精度的同时还能提高适用性、降低成本的效果。

本申请的实施例是这样实现的：

本申请实施例的第一方面，提供一种电光晶体光轴对准系统，所述系统包括：分光装置、第一反射装置、第一透镜、第二反射装置以及光学处理设备；

所述分光装置用于将来自光束产生装置的原始光束拆分为第一光束和第二光束，并将所述第一光束射向所述第一反射装置，将所述第二光束射向待对准电光晶体，以使得所述待对准电光晶体基于所述待对准电光晶体的当前位姿将所述第二光束的折射光经所述第一透镜发射到所述第二反射装置；

所述第一反射装置用于反射所述第一光束，并将所述第一光束的反射光束射入所述分光装置；

所述第二反射装置用于反射所述第二光束的折射光并将所述第二光束的折射光的反射光束射入所述第一透镜；所述第一透镜用于对所述第二光束的折射光的反射光束进行准直处理，并将准直后反射光束经所述待对准电光晶体发射到所述分光装置；

所述分光装置还用于将所述第一光束的反射光束和所述准直后反射光束反射到所述光学处理设备；

所述光学处理设备用于对所述第一光束的反射光束和所述准直后反射光束进行光电转换并生成干涉图像，基于所述干涉图像确定所述待对准电光晶体的光轴是否对准，并在所述待对准电光晶体的光轴对准时记录所述待对准电光晶体的目标位姿；以及，控制所述待对准电光晶体处于所述目标位姿。

可选地，所述系统还包括转台和驱动设备，所述待对准电光晶体固定放置在所述转台上；

所述转台与所述光学处理设备连接；

所述驱动设备用于在所述光学处理设备的控制下驱动所述转台旋转；

所述转台用于在所述驱动设备的驱动下转动，以调整所述待对准电光晶体的位姿，所述待对准电光晶体的位姿包括所述待对准电光晶体在第一方向、第二方向和第三方向上的旋转角度和高度。

可选地，所述光学处理设备包括面阵探测器和处理单元；

所述面阵探测器用于根据所述第一光束的反射光束和所述准直后反射光束转换为目标电信号，并将所述目标电信号输出到所述处理单元；