[发明专利]防窥膜及显示装置

说明书

本发明公开了防窥膜及显示装置，涉及显示技术领域。其中，该防窥膜及显示装置，包括：第一透明基材；第二透明基材，与第一透明基材相对设置；第三透明基材，设置于远离第一透明基材一侧的第二透明基材上；棱镜膜，其一侧与第一透明基材相连，另一侧由第一透明基材向靠近第二透明基材的方向延伸；若干个第一遮光单元；若干个第二遮光单元；及若干个第三遮光单元。本发明，解决现有的防窥膜微结构设计均需要高的深宽比，导致微结构在热压转印或光固化转写过程中都十分困难，有严重的转写率或脱模问题，造成转写材料或模具表面处理的成本昂贵，亦或使转印速度缓慢，不利于工业上的卷对卷生产效率的问题。

技术领域

本发明涉及显示技术领域，尤其涉及一种防窥膜及显示装置。

背景技术

目前防窥膜的设计都以微结构光栅限制光线穿透膜后的可视角度为主。

现有的防窥膜为了达到良好的防窥角度，微结构设计均需要高的深宽比，往往达到10-30，这样的微结构在热压转印或光固化转写过程中都十分困难，有严重的转写率或脱模问题，造成转写材料或模具表面处理的成本昂贵，亦或使转印速度缓慢，不利于工业上的卷对卷生产效率的问题，目前尚未提出有效的解决方案。

发明内容

发明目的：提供一种防窥膜及显示装置，以解决现有技术存在的上述问题。

技术方案：一种防窥膜，包括：第一透明基材；第二透明基材，与所述第一透明基材相对设置；第三透明基材，设置于远离所述第一透明基材一侧的所述第二透明基材上；棱镜膜，其一侧与所述第一透明基材相连，另一侧由所述第一透明基材向靠近所述第二透明基材的方向延伸；若干个第一遮光单元，间隔设置于靠近所述棱镜膜一侧的所述第二透明基材上；若干个第二遮光单元，间隔设置于所述第二透明基材和所述第三透明基材之间，且分别一一对应设置于若干个所述第一遮光单元上方；及若干个第三遮光单元，间隔设置于远离所述第二透明基材一侧的所述第三透明基材上，且分别一一对应设置于若干个所述第二遮光单元上方；其中，所述第一遮光单元、所述第二遮光单元和所述第三遮光单元呈中轴对称设置；

所述第一遮光单元的宽度为A1，所述第二遮光单元的宽度为A2，所述第三遮光单元的宽度为A3，其中，所述第三遮光单元的宽度A3与所述第二遮光单元的宽度A2的比值区间为：0.95≤A3/A2≤1.1，所述第一遮光单元的宽度A1与所述第二遮光单元的宽度A2比值关系为：A2≥2A1。

作为优选，所述第二透明基材与所述棱镜膜之间设置有第一粘结层。

作为优选，所述第二透明基材与所述第三透明基材之间设置有第二粘结层。

作为优选，所述第一遮光单元的宽度为A1和所述第二透明基材的厚度为C1，其中，所述第二透明基材的厚度C1与所述第一遮光单元的宽度A1的比值区间为：C1/A1≤5。

作为优选，所述第一遮光单元的宽度A1为5-10μm，所述第二遮光单元的宽度A2为10-25μm，所述第三遮光单元的宽度A3为9.5-25μm。

作为优选，相邻所述第一遮光单元之间形成第一透光单元，相邻所述第二遮光单元之间形成第二透光单元，相邻所述第三遮光单元之间形成第三透光单元。

作为优选，所述第一透光单元的宽度为B，所述第一透光单元的宽度B与第一遮光单元的宽度A1的比值区间为B/A1＜10。

作为优选，所述第三透明基材的厚度为C2，所述第三透明基材的厚度C2与所述第二透明基材的厚度C1的比值区间为：C2/C1≤2。

为了解决上述问题，本发明还公开了一种显示装置，包括显示面板以及上述任一实施例中的防窥膜，防窥膜设置于所述显示面板一侧。