[发明专利]一种基于氧化炉的铜皮分段氧化工艺

权利要求书

1.一种基于氧化炉的铜皮分段氧化工艺，其特征在于，具体包括以下步骤：

步骤一：选用分段加热隧道炉作为氧化设备，在隧道炉顶部均匀分布加热电阻丝，并启动隧道炉内的加热电阻丝进行加热；

步骤二：将需要进行预氧化的铜片放置在输送机表面的限位机构内，待隧道炉内的加热电阻丝升温至设定温度后，将铜片输送隧道炉内；

步骤三：向铜片所在的该段隧道炉内注入氧气，吹至铜片的表面对铜片进行氧化，氧化后，通过输送机将铜片输送至下一段隧道炉内；

步骤四：重复步骤三使得铜片经过整个隧道炉后，再进行退火。

2.根据权利要求1所述的一种基于氧化炉的铜皮分段氧化工艺，其特征在于，步骤一中隧道炉为三段加热，其中第一段隧道炉加热温度为500-600℃，第二段隧道炉加热温度为600-650℃，第三段隧道炉为650-700℃。

3.根据权利要求1所述的一种基于氧化炉的铜皮分段氧化工艺，其特征在于，步骤二中铜片以竖直的方式放置在限位机构内，并且限位机构设置有若干个，该若干个限位机构均匀的布置在输送机上。

4.根据权利要求1或3所述的一种基于氧化炉的铜皮分段氧化工艺，其特征在于，所述限位机构包括对称设置的两个限位立板(1)，两个所述限位立板(1)相对的一侧之间开设有限位槽(2)，其中限位槽(2)呈弧形设置，并且两个限位立板(1)之间对称设置有挡风板(3)。

5.根据权利要求4所述的一种基于氧化炉的铜皮分段氧化工艺，其特征在于，所述挡风板(3)用于改变氧气的吹气方向，所述限位槽(2)用于对铜片进行限位。

6.根据权利要求1所述的一种基于氧化炉的铜皮分段氧化工艺，其特征在于，步骤三中氧气在隧道炉以从上至下的方式吹至铜片的表面，并且氧气加热至650℃后使用。

7.根据权利要求1所述的一种基于氧化炉的铜皮分段氧化工艺，其特征在于，步骤三中第一段隧道炉内的氧化时间为15-20min，第二段氧化时间为20-25min，第三段氧化时间为25-30min，并且输送机的输送速度为10cm/min。

8.根据权利要求1所述的一种基于氧化炉的铜皮分段氧化工艺，其特征在于，步骤四中以风冷的方式进行退火。