[发明专利]一种微液滴生成装置及应用在审
申请号: | 202310536004.0 | 申请日: | 2023-05-12 |
公开(公告)号: | CN116422391A | 公开(公告)日: | 2023-07-14 |
发明(设计)人: | 张华 | 申请(专利权)人: | 苏州矽劼微电子有限公司 |
主分类号: | B01L3/00 | 分类号: | B01L3/00;A61K9/16 |
代理公司: | 北京品源专利代理有限公司 11332 | 代理人: | 赵颖 |
地址: | 215000 江苏省苏州市*** | 国省代码: | 江苏;32 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 一种 微液滴 生成 装置 应用 | ||
1.一种微液滴生成装置,其特征在于,沿微液滴挤出的方向,所述微液滴生成装置包括依次设置的硅衬底材料层、第一氧化硅层、硅层、第二氧化硅层、第一导电层、压电薄膜层以及第二导电层,所述第一导电层与第二导电层还分别独立地连接第三导电层;
所述硅层上设置有微孔阵列;所述硅衬底材料层、第一氧化硅层、第二氧化硅层、第一导电层、压电薄膜层以及第二导电层的中部均开设有通槽,用于液体与微液滴的流通。
2.根据权利要求1所述的微液滴生成装置,其特征在于,所述微孔阵列中按照孔间距与微孔为(1-2):1的方式进行排列;
优选地,所述微孔的形状包括梯形锥孔。
3.根据权利要求2所述的微液滴生成装置,其特征在于,所述梯形锥孔的液体进口直径为1-10μm;
优选地,所述梯形锥孔的微液滴出口直径为0.5-5μm。
4.根据权利要求2或3所述的微液滴生成装置,其特征在于,所述梯形锥孔的内壁覆盖有5-10nm的氧化硅层;
优选地,所述微孔阵列的厚度为500-5000nm。
5.根据权利要求1-4任一项所述的微液滴生成装置,其特征在于,所述压电薄膜层的厚度为500-10000nm;
优选地,所述压电薄膜层包括锆钛酸铅薄膜。
6.根据权利要求1-5任一项所述的微液滴生成装置,其特征在于,所述压电薄膜层采用外环进行驱动;
优选地,所述外环的内径与外径分别为50-500μm,且外环的内径小于外径。
7.根据权利要求1-6任一项所述的微液滴生成装置,其特征在于,所述硅衬底材料层的厚度为20-1000μm,优选为200-600μm。
8.根据权利要求1-7任一项所述的微液滴生成装置,其特征在于,所述硅衬底材料层的通槽侧壁包括平面侧壁或梯形斜面侧壁;
优选地,所述平面侧壁与水平面的夹角为80-95°;
优选地,所述梯形斜面侧壁与水平面的夹角为40-60°。
9.根据权利要求1-8任一项所述的微液滴生成装置,其特征在于,所述第一氧化硅层与第二氧化硅层的厚度分别为100-1000nm;
优选地,所述第一导电层、第二导电层以及第三导电层的厚度分别为10-500nm;
优选地,所述第一导电层与第二导电层的材质包括铂;
优选地,所述第三导电层的材质包括金和/或铝。
10.一种如权利要求1-9任一项所述的微液滴生成装置的应用,其特征在于,所述微液滴生成装置用于药物微球制备、雾化装置或数字定量检测中。
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