[发明专利]一种近接既有建(构)筑物岩质地层的爆破减震方法在审

专利信息
申请号: 202310557547.0 申请日: 2023-05-17
公开(公告)号: CN116481391A 公开(公告)日: 2023-07-25
发明(设计)人: 宋战平;房雨辰;张玉伟;刘乃飞;郑方;田小旭 申请(专利权)人: 西安建筑科技大学
主分类号: F42D1/08 分类号: F42D1/08;E02D17/04;F42D1/00;F42D3/04;F42D5/04;F42D5/045
代理公司: 西安泛想力专利代理事务所(普通合伙) 61260 代理人: 柳晶
地址: 710055 *** 国省代码: 陕西;61
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要:
搜索关键词: 一种 既有 筑物岩 质地 爆破 减震 方法
【说明书】:

发明属于基坑施工技术领域,具体涉及一种近接既有建(构)筑物岩质地层的爆破减震方法,首先清除基坑上层土体,裸露基坑内的岩石基体,在基坑远离建筑物一侧开挖辅助爆破基坑d1;然后在基坑其余三侧的边缘等间距开设预裂爆破孔,预裂爆破孔内装药爆破;再根据辅助爆破基坑d1深度对岩石基体进行分层,每层岩石基体高度与辅助爆破基坑d1深度相同,沿平行辅助爆破基坑d1方向将每层岩石基体等分为两块区域,对分层分区后的岩石基体进行标记;最后依据岩石基体的标记依次进行钻孔爆破,爆破后清理碎石,得到基坑。本发明的一种近接既有建(构)筑物岩质地层的爆破减震方法,能够减小岩石基坑爆破时对周边建筑物的冲击,减轻建筑的振动。

技术领域

本发明属于基坑施工技术领域,具体涉及一种近接既有建(构)筑物岩质地层的爆破减震方法。

背景技术

随着我国西南地区的经济发展,城市建设用地日益紧缺,已有的基础设施已不能满足经济发展的需求。于是,越来越多的建筑向高、深、大的方向发展,同时越来越多的基坑工程也随之增多。我国西南地区地质条件复杂,有些地区地表下存在坚硬的基岩,且在基坑开挖之前周边就存在既有建(构)筑物,这给深基坑工程的便捷安全的施工带来了很多问题。对于这些下伏基岩的深基坑工程,普通的机械挖掘难以满足工程的需求,通常采用钻爆法来进行基岩的深基坑开挖。

钻爆法是通过钻孔爆破实现对岩石的破碎和抛掷以达到开挖目的,具有经济、高效、适应性强的特点,在工期紧张的城市深基坑工程施工中能灵活变通、缩短工期,不失为一种高效便捷的方法。然而钻孔爆破时会对周边产生冲击力,当开挖的基坑周边有建筑物时,冲击力难免会使建筑物产生震动,若冲击力过大可能还会造成建筑物的地基或者主体受损,因此如何减小爆破时的冲击力是目前国内外专家学者的研究重点对象之一。

发明内容

本发明的目的是提供一种近接既有建(构)筑物岩质地层的爆破减震方法,能够减小岩石基坑爆破时对周边建筑物的冲击,减轻建筑的振动。

本发明所采用的技术方案是,一种近接既有建(构)筑物岩质地层的爆破减震方法,包括以下具体步骤:

步骤1,清除基坑上层土体,裸露基坑内的岩石基体,在基坑远离建筑物一侧开挖辅助爆破基坑d1,所述辅助爆破基坑d1的开挖顶标高与岩石基体顶面处于同一水平面;

步骤2,在基坑其余三侧的边缘等间距开设预裂爆破孔,预裂爆破孔内装药爆破;

步骤3,根据辅助爆破基坑d1深度对岩石基体进行分层,每层岩石基体高度与辅助爆破基坑d1深度相同,沿平行辅助爆破基坑d1方向将每层岩石基体等分为两块区域,对分层分区后的岩石基体进行标记;

步骤4,依据岩石基体的标记依次进行钻孔爆破,爆破后清理碎石,即完成岩石基坑爆破。

进一步的,所述步骤1中辅助爆破基坑d1的长度与基坑远离建筑物一侧边长长度相同,所述辅助爆破基坑d1的宽度为1m~3m,当基坑深度为6m以内时,辅助爆破基坑d1的深度为基坑深度的一半,若基坑深度大于6m时,辅助爆破基坑d1的深度为3m。

进一步的,所述步骤1中辅助爆破基坑d1与基坑相邻两侧边间距为1m~3m。

进一步的,所述预裂爆破孔相邻孔之间间距为1m,预裂爆破孔孔径为50mm,所述基坑深度小于预裂爆破孔深度,且所述预裂爆破孔孔深与基坑深度之差不小于0.5m,所述预裂爆破孔内装药量为3kg~3.5kg。

进一步的,所述步骤3中对分层分区后的岩石基体进行标记具体为:将首层岩石基体靠近辅助爆破基坑d1的区域记为a区,最下层岩石基体远离辅助爆破基坑d1的区域记为c区,其余岩石基体区域记为b区;对b区进行具体划分:邻近a区的两处岩石基体区域记为b1区,邻近b1区的两处岩石基体区域记为b2区,以此类推,直至将b区划分完毕。

进一步的,所述步骤4中依据岩石基体的标记依次进行钻孔爆破,具体步骤为:

下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于西安建筑科技大学,未经西安建筑科技大学许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/202310557547.0/2.html,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top