[发明专利]一种基于共聚焦显微镜的量块测量装置及测量方法

权利要求书

1.一种基于共聚焦显微镜的量块测量装置，其特征是，包括用于放置量块的载物台，载物台的两侧分别设有一个直线运动装置，两个直线运动装置上分别安装有一个共聚焦显微镜，两个共聚焦显微镜在直线运动装置的驱动下相互靠近或远离；每个直线运动装置配置有一个用于测量直线运动装置运动位移的激光干涉仪测距装置；

所述共聚焦显微镜用于采集量块的表面形貌数据，并将采集的数据传输给上位机；所述激光干涉仪测距装置与上位机连接并向上位机反馈直线运动装置的运动位移信号；

所述上位机用于根据量块的表面形貌数据和直线运动装置的位移信号计算得出量块的尺寸参数；所述上位机还用于根据激光干涉仪测距装置反馈的信号控制直线运动装置的运动。

2.根据权利要求1所述的基于共聚焦显微镜的量块测量装置，其特征在于：所述激光干涉仪测距装置包括激光干涉仪、第一反射镜、第二反射镜以及设置在直线运动装置上的末端反射镜，激光干涉仪发出的激光束依次经第一反射镜、第二反射镜反射至末端反射镜，末端反射镜再将激光束沿原路依次经第二反射镜、第一反射镜反射至激光干涉仪。

3.根据权利要求1所述的基于共聚焦显微镜的量块测量装置，其特征在于：所述激光干涉仪与第一反射镜之间的激光束路径垂直于第一反射镜与第二反射镜之间的激光束路径，第二反射镜与末端反射镜之间的激光束路径垂直于第一反射镜与第二反射镜之间的激光束路径。

4.根据权利要求1所述的基于共聚焦显微镜的量块测量装置，其特征在于：所述激光干涉仪设在直线运动装置的下方。

5.根据权利要求1所述的基于共聚焦显微镜的量块测量装置，其特征在于：两个共聚焦显微镜及两个直线运动装置、两个激光干涉仪测距装置对称地设置在载物台两侧。

6.根据权利要求1所述的基于共聚焦显微镜的量块测量装置，其特征在于：两个直线运动装置共线设置，两个共聚焦显微镜的光轴同轴设置。

7.根据权利要求1所述的基于共聚焦显微镜的量块测量装置，其特征在于：所述末端反射镜设在直线运动装置的尾部。