[发明专利]一种微纳结构非晶碳薄膜、低温沉积方法及应用

权利要求书

1.一种微纳结构非晶碳薄膜的低温沉积方法，其特征在于，包括以下步骤：

S1：将小分子碳源均匀铺设在坩埚内，随后将坩埚置于箱式炉内；

S2：将衬底架于坩埚开口正上方，关闭炉门；

S3：启动加热，将炉子加热至沉积温度后进行保温处理，待沉积完毕后冷却至室温，得到微纳结构非晶碳薄膜。

2.根据权利要求1所述的低温沉积方法，其特征在于，所述小分子碳源为葡萄糖、果糖、蔗糖、柠檬酸、草酸、抗坏血酸中的一种或多种。

3.根据权利要求1所述的低温沉积方法，其特征在于，所述小分子碳源的添加量为0.1～1g。

4.根据权利要求1所述的低温沉积方法，其特征在于，所述小分子碳源与衬底的间距为2～10cm。

5.根据权利要求1所述的低温沉积方法，其特征在于，所述沉积温度为160～350℃，保温时间为1～60min。

6.根据权利要求1所述的低温沉积方法，其特征在于，所述衬底为玻璃，陶瓷、金属材料中的一种。

7.根据权利要求1所述的低温沉积方法，其特征在于，所述坩埚为玻璃或陶瓷坩埚；坩埚开口为圆形或方形。

8.根据权利要求1所述的低温沉积方法，其特征在于，所述衬底表面生长有氧化钨纳米片，所述微纳结构非晶碳薄膜沉积于氧化钨纳米片上。

9.由上述权利要求1～8中任一项低温沉积方法所制备出的微纳结构非晶碳薄膜，其特征在于，所述微纳结构非晶碳薄膜呈非晶碳结构，表面分布有微纳米级包状凸起。

10.权利要求8所述的沉积有微纳结构非晶碳薄膜的氧化钨纳米片在检测和识别NO₂领域中的应用。