[发明专利]一种有机溶剂激光清洗系统及其控制方法

说明书

本发明公开一种有机溶剂激光清洗系统及其控制方法，包括控制器、视觉装置、中央处理器、激光装置、机械臂、气体收集装置，控制器、视觉装置分别与中央处理器信号连接，中央处理器通过控制器分别控制机械臂和激光装置，激光装置安装在机械臂上，气体收集装置安装在激光装置上位于激光装置和基材之间，激光通过所述气体收集装置照射至基材表面。通过控制器控制机械臂带动激光装置对基材表面进行清洗，使用视觉装置对清洗后表面进行拍摄，将拍摄结果发送至中央处理器进行处理，得出清洗率，并对清洗率进行判断，及格或者不合格则继续清洗直至清洗率合格，提高了清洗效果，在清洗过程中设置气体收集装置来吸收清洗时产生的有害气体，保障人员健康。

技术领域

本发明涉及一种激光清洗系统及其控制方法，特别提供了一种有机溶剂激光清洗系统及其控制方法，属于激光清洗技术领域。

背景技术

随着时代发展，工业、农业和国防领域对有机物溶剂都有了更广泛的应用，但是有机物溶剂在使用过后经常会残留在喷洒装置、运输工具和战后军用装备的表面，由于有机溶剂的残留对人体有一定的危害性，严重的会影响到中枢神经系统和呼吸系统等身体部位功能，所以需要对这类残留有有机物溶剂的表面进行清洗。

传统的清洗方式主要是采用水和化学品混合液进行喷淋处理，简单方便，但水源污染严重，对设备器件表面也有一定的腐蚀，同时还需要进行人工清洗，不仅对环境会造成污染，同时也会给人员健康带来风险，并且这种化学清洗方式，需要匹配到能与有机物溶剂产生化学反应的药剂来清洗，但是有机物溶剂种类繁多，匹配难度大，而且二者融合后形成的新溶剂，很可能会对表面造成新的损害，并且部分有机物溶剂清洗难度较大，传统清洗方式并不能清洗干净达到清洗合格率。

发明内容

发明目的：针对现有技术中存在的不足，本发明提供了一种有机溶剂激光清洗系统及其控制方法，本发明通过有限元软件仿真出激光清洗参数范围后取值对基材表面的有机溶剂采用激光清洗，并设置清洗率合格标准进行循环清洗，以解决有机物溶剂清洗难度较大的问题。

技术方案：一种有机溶剂激光清洗系统，包括控制器、视觉装置、中央处理器、激光装置、机械臂、气体收集装置，所述控制器、视觉装置分别与中央处理器信号连接，所述中央处理器通过控制器分别控制机械臂和激光装置，所述激光装置安装在机械臂上，所述气体收集装置安装在激光装置上位于激光装置和基材之间，激光通过所述气体收集装置照射至基材表面。

本发明通过控制器控制机械臂带动激光装置对基材表面进行清洗，使用视觉装置对清洗后表面进行拍摄，将拍摄结果发送至中央处理器进行处理，得出清洗率，并对清洗率进行判断是否合格，及格或者不合格则继续清洗直至清洗率合格结束，提高清洗效果，并且在清洗过程中设置了气体收集装置用来吸收清洗时产生的有害气体，保障了人员健康。

优选项，为了在处理不及格表面时测量有机溶剂的厚度，还包括液膜厚度测试仪，所述液膜厚度测试仪与中央处理器信号连接。

优选项，为了检测基材表面有机溶剂成分含量，还包括光谱检测装置，所述光谱检测装置与中央处理器信号连接。通过检测清洗率合格的基材表面，做出光谱图，进一步检测有机溶剂成分含量，验证清洗效果。

一种有机溶剂激光清洗系统的控制方法，包括以下步骤：

S1：确定激光清洗参数范围H1-H2；

S101：选取激光清洗参数H1：通过中央处理器进行有限元软件分析出溶剂表面温度T随功率P和扫描速度v变化曲线图，根据曲线图选取激光清洗参数H1；

S102：选取激光清洗参数H2：通过中央处理器进行有限元软件分析出基材表面温度T随功率P和扫描速度v变化曲线图，根据曲线图选取激光清洗参数H2；根据S101得出的H1确定激光清洗参数范围在H1-H2；

S2：取值清洗：在H1-H2中选取参数值H3，将选取的参数值H3转换成控制信号发送至控制器，控制器控制机械臂和激光装置进行清洗；