[发明专利]一种显示面板及其制备方法、显示装置在审
申请号: | 202310609763.5 | 申请日: | 2023-05-24 |
公开(公告)号: | CN116507178A | 公开(公告)日: | 2023-07-28 |
发明(设计)人: | 苏同上;赵策;成军;刘军;周斌;闫梁臣;耿军 | 申请(专利权)人: | 合肥鑫晟光电科技有限公司;京东方科技集团股份有限公司 |
主分类号: | H10K59/80 | 分类号: | H10K59/80;H10K59/35;H10K59/38;H10K59/12;H10K102/10 |
代理公司: | 北京志霖恒远知识产权代理有限公司 11435 | 代理人: | 郭栋梁 |
地址: | 230012 *** | 国省代码: | 安徽;34 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 一种 显示 面板 及其 制备 方法 显示装置 | ||
1.一种显示面板,其特征在于,包括:
阵列基板;
在所述阵列基板上阵列设置多个像素单元,所述像素单元包括多个子像素,每一所述子像素均包括层叠设置的第一电极、发光层、第二电极,
所述第一电极为透明电极,不同所述子像素对应的所述第一电极的厚度不同,且不同厚度的所述第一电极在同一道工序中制备而成。
2.根据权利要求1所述的显示面板,其特征在于,所述子像素包括第一子像素、第二子像素和第三子像素,所述第一电极包括对应所述第一子像素的第一透明电极、对应所述第二子像素的第二透明电极、对应所述第三子像素的第三透明电极,所述第一透明电极和所述第二透明电极的厚度均小于所述第三透明电极的厚度。
3.根据权利要求2所述的显示面板,其特征在于,所述第一透明电极的厚度与所述第二透明电极的厚度相同。
4.根据权利要求2所述的显示面板,其特征在于,所述第一子像素为红色子像素,所述第一透明电极的厚度为700~800埃;所述第二子像素为绿色子像素,所述第二透明电极的厚度为1000~1200埃;所述第三子像素为蓝色子像素,所述第三透明电极的厚度为1000~1200埃。
5.根据权利要求1所述的显示面板,其特征在于,所述阵列基板包括衬底基板以及在所述衬底基板上阵列设置的多个薄膜晶体管,所述薄膜晶体管包括层叠设置的有源层、栅绝缘层、栅金属层、源漏金属层、钝化层;
设置在所述阵列基板表面的彩膜层,所述彩膜层包括阵列设置的多个滤光块,所述滤光块在所述阵列基板上的正投影与所述子像素在所述阵列基板上的正投影至少部分重叠,所述滤光块包括对应第一子像素的第一滤光块、对应第二子像素的第二滤光块、对应第三子像素的第三滤光块。
6.根据权利要求5所述的显示面板,其特征在于,还包括:
设置在所述阵列基板上的平坦层,所述平坦层覆盖在多个所述滤光块上,所述平坦层在远离所述阵列基板一侧的上表面平齐;
所述平坦层上设置有贯穿所述平坦层的多个过孔,所述透明电极层形成在所述平坦层的上表面,所述透明电极层通过所述过孔与所述源漏金属层接触。
7.一种显示面板的制备方法,其特征在于,所述方法包括:
提供阵列基板;
在所述阵列基板的表面形成阵列设置的多个像素单元,所述像素单元包括多个子像素,每一所述子像素均包括层叠设置的第一电极、发光层、第二电极,所述第一电极为透明电极,不同所述子像素对应的所述第一电极的厚度不同。
8.根据权利要求7所述的方法,其特征在于,所述第一电极包括对应第一子像素的第一透明电极、对应第二子像素的第二透明电极、对应第三子像素的第三透明电极;
在所述阵列基板的表面形成阵列设置的多个像素单元,方法包括:
在所述阵列基板上形成透明电极层;
在所述透明电极层形成光刻胶;
利用掩膜版对所述光刻胶进行曝光、显影形成光刻胶图案,所述光刻胶图案包括光刻胶部分去除的第一区域和第二区域、光刻胶全部保留的第三区域、光刻胶全部去除的第四区域;所述第一区域和所述第二区域上光刻胶的厚度均小于所述第三区域上光刻胶的厚度;
通过刻蚀形成电极图案,所述电极图案包括在第一区域形成的第一电极块、在第二区域形成的第二电极块以及在第三区域上形成的第三电极块,所述第一电极块、第二电极块和第三电极块的厚度相同。
9.根据权利要求8所述的方法,其特征在于,所述透明电极层的厚度与所述第三透明电极的厚度相同,所述第一透明电极的厚度与所述第二透明电极的厚度相同,所述方法还包括:
通过光刻胶剥离工艺完全去除所述第一区域和第二区域上的光刻胶并保留部分厚度所述第三区域上的光刻胶;
通过刻蚀对所述电极图案进行减薄,在所述第一电极块上形成预设厚度的第一透明电极以及在所述第二电极块上形成预设厚度的第二透明电极;
通过光刻胶剥离工艺完全去除所述第三区域上的光刻胶,形成所述第三透明电极。
10.一种显示装置,其特征在于,包括如权利要求1-6所述的显示面板或者采用如权利要求7-9任一所述方法制备而成的显示面板。
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