[发明专利]磁共振成像方法、装置、成像设备及存储介质

权利要求书

1.一种磁共振成像方法，其特征在于，所述方法包括：

确定视场FOV区域和初始选层的初始层厚；

基于所述初始层厚，获取初始选层梯度；

向成像区域施加所述初始选层梯度、额外选层梯度以及射频脉冲，激发目标选层，获取所述目标选层对应的磁共振数据；其中，所述目标选层相对于所述初始选层发生倾斜，倾斜后的所述目标选层覆盖所述视场FOV区域；

基于所述磁共振数据得到目标磁共振图像。

2.根据权利要求1所述的方法，其特征在于，所述额外选层梯度的方向为相位编码方向或者频率编码方向；所述额外选层梯度的确定方式，包括：

确定所述目标选层的倾斜角度；

根据所述倾斜角度与所述初始选层梯度确定所述额外选层梯度。

3.根据权利要求1所述的方法，其特征在于，所述向成像区域施加所述初始选层梯度、额外选层梯度以及射频脉冲，激发目标选层，获取所述目标选层对应的磁共振数据，包括：

向所述成像区域施加所述初始选层梯度、第一选层梯度以及射频脉冲，激发第一目标选层，获取所述第一目标选层对应的第一磁共振数据；和/或

向所述成像区域施加所述初始选层梯度、第二选层梯度以及射频脉冲，激发第二目标选层，获取所述第二目标选层对应的第二磁共振数据；其中，所述第一目标选层倾斜的角度方向与所述第二目标选层倾斜的角度方向相反，所述目标选层对应的磁共振数据包括所述第一磁共振数据和\或所述第二磁共振数据。

4.根据权利要求3所述的方法，其特征在于，第一选层梯度和第二选层梯度的确定方式，包括：

确定第一倾斜角度，并根据所述第一倾斜角度与所述初始选层梯度确定所述第一选层梯度；

确定第二倾斜角度，并根据所述第二倾斜角度与所述初始选层梯度确定所述第二选层梯度。

5.根据权利要求4所述的方法，其特征在于，所述第二倾斜角度与第一倾斜角度大小相等且角度方向相反；

在施加所述第一选层梯度或者所述第二选层梯度的情况下，保持所述视场FOV大小不变，所述目标选层的目标层厚是根据所述初始层厚、所述第一倾斜角度、预设方向上的视场FOV大小确定的；

相邻扫描层之间的层间距是由所述视场FOV大小与所述第一倾斜角度决定的。

6.根据权利要求4所述的方法，其特征在于，所述视场FOV区域的两端分别具有第一过采区域和第二过采区域，所述第一过采区域、所述视场FOV区域、所述第二过采区域在预设方向上的长度记为L1；

L1＝L0+|th/tanα₁|+|th/tanα₂|；

其中，L0为所述预设方向上的视场FOV区域大小，th为所述初始层厚，α₁为所述第一倾斜角度，α₂为所述第二倾斜角度。

7.根据权利要求2所述的方法，其特征在于，所述目标选层的目标层厚记为D，且大于所述初始选层的初始层厚；

若所述射频脉冲为激发脉冲，所述激发脉冲对应的激发选层的选层厚度等于D，回聚脉冲对应的回聚选层的选层厚度等于所述初始选层的初始层厚；

若所述射频脉冲为回聚脉冲，所述回聚脉冲对应的回聚选层的选层厚度等于D，激发脉冲对应的激发选层的选层厚度等于所述初始选层的初始层厚。

8.根据权利要求7所述的方法，其特征在于，第一倾斜角度与第二倾斜角度大小相等，采用以下公式确定所述目标层厚D：

D＝(L0+|th/tan(-α)|)*|sin(-α)|

其中，L0为预设方向上的视场FOV大小，th为所述初始层厚，α为所述倾斜角度。

9.根据权利要求1所述的方法，其特征在于，所述目标选层的倾斜包括以下情形中的至少一种：

发生倾斜的目标选层没有覆盖第一边缘场畸变区域；

发生倾斜的目标选层没有覆盖第二边缘场畸变区域；

其中，所述第二边缘场畸变区域与所述第一边缘场畸变区域分别位于所述成像区域的两端。