[发明专利]曝光调整方法、装置、设备和计算机可读存储介质

权利要求书

1.一种曝光调整方法，应用于测距系统，其特征在于，包括：

基于在当前环境下对目标物进行一次测量得到的距离值和曝光强度值；

对一次测量得到的距离值和曝光强度值进行评分；

将评分后的距离值和曝光强度值输入至曝光计算器，生成曝光参数；

根据所述曝光参数，对所述目标物进行下一次测量；

其中，所述曝光计算器包括：

 =  + dn*a+qn*b；

其中，为目标曝光参数；

为初始曝光参数；

dn为距离值的评分；

qn为曝光强度值的评分；

a和b为参数。

2.根据权利要求1所述的方法，其特征在于，所述对一次测量得到的距离值和曝光强度值进行评分包括：

其中，对所述距离值进行评分包括：

若所述距离值大于距离阈值，则评分为10；

若所述距离值小于等于距离阈值，则评分为距离阈值与1000的比值；

对所述曝光强度值进行评分包括：

若所述曝光强度值大于强度阈值，则评分为10；

若所述曝光强度值小于等于强度阈值，则评分为强度阈值与20的比值。

3.根据权利要求2所述的方法，其特征在于，所述a和b参数通过如下方式训练得到：

获取N组曝光参数下的不同距离的曝光强度值，得到N组包括曝光参数、采集距离和对应曝光强度值的数据；

对所述N组包括曝光参数、采集距离和对应曝光强度值的数据进行拟合训练，得到参数a和b。

4.一种应用于测距系统的曝光调整装置，其特征在于，包括：

生成模块，用于基于在当前环境下对目标物进行一次测量得到的距离值和曝光强度值；

对一次测量得到的距离值和曝光强度值进行评分；

将评分后的距离值和曝光强度值输入至曝光计算器，生成曝光参数；

测量模块，用于根据所述曝光参数，对所述目标物进行下一次测量；

其中，所述曝光计算器包括：

 =  + dn*a+qn*b；

其中，为目标曝光参数；

为初始曝光参数；

dn为距离值的评分；

qn为曝光强度值的评分；

a和b为参数。

5.根据权利要求4所述的装置，其特征在于，所述对一次测量得到的距离值和曝光强度值进行评分包括：

其中，对所述距离值进行评分包括：

若所述距离值大于距离阈值，则评分为10；

若所述距离值小于距离阈值，则评分为距离阈值与1000的比值；

对所述曝光强度值进行评分包括：

若所述曝光强度值大于强度阈值，则评分为10；

若所述曝光强度值小于强度阈值，则评分为强度阈值与20的比值。

6.一种电子设备，包括存储器和处理器，所述存储器上存储有计算机程序，其特征在于，所述处理器执行所述计算机程序时实现如权利要求1~3中任一项所述的方法。

7.一种计算机可读存储介质，其上存储有计算机程序，其特征在于，所述计算机程序被处理器执行时实现如权利要求1~3中任一项所述的方法。