[发明专利]一种电极材料的制备方法在审
申请号: | 202310732301.2 | 申请日: | 2023-06-20 |
公开(公告)号: | CN116631789A | 公开(公告)日: | 2023-08-22 |
发明(设计)人: | 祁正兵;魏斌斌;吴金港;侯拙;方敏杰 | 申请(专利权)人: | 厦门理工学院 |
主分类号: | H01G11/86 | 分类号: | H01G11/86;H01G11/30;H01G11/24;H01G11/26 |
代理公司: | 厦门市精诚新创知识产权代理有限公司 35218 | 代理人: | 吴金森 |
地址: | 361000 福建省*** | 国省代码: | 福建;35 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 一种 电极 材料 制备 方法 | ||
1.一种电极材料的制备方法,其特征在于,所述电极材料为三元过渡金属氮化物电极材料,其制备方法包括以下步骤:
1)采用等离子清洗碳纸基体,得到基体A;
2)对基体A进行基体偏压自刻蚀,得到基体B;
3)对基体B的表面进行磁控溅射,得到电极材料;所述磁控溅射的靶材为Cr靶和过渡金属元素靶材;所述过渡金属元素选自V、Nb或Ti中的其中一种;所述磁控溅射的气氛为N2和Ar。
2.根据权利要求1所述的一种电极材料的制备方法,其特征在于:所述等离子清洗采用电感耦合等离子体;所述等离子清洗的源功率为250W-300W;所述等离子清洗的高偏压电源功率为100W-150W;所述等离子清洗的气氛为CF4和O2。
3.根据权利要求2所述的一种电极材料的制备方法,其特征在于:所述CF4的流量为
10sccm-15sccm;所述O2的流量为15sccm-20sccm;所述O2的压强为0.25Pa-0.5Pa。
4.根据权利要求1所述的一种电极材料的制备方法,其特征在于:所述基体偏压自刻蚀的真空腔室抽至1.0×10-5Pa以下,Ar的流量为15sccm-20sccm,压强为0.1Pa-0.3Pa,基体负偏压为120V-150V,电流为0.6A-0.75A。
5.根据权利要求1所述的一种电极材料的制备方法,其特征在于:所述磁控溅射为脉冲反应磁控共溅射。
6.根据权利要求5所述的一种电极材料的制备方法,其特征在于:所述Cr靶材的电源功率为190W-220W,频率为100KHz-200KHz,占空比为5%-10%。
7.根据权利要求5所述的一种电极材料的制备方法,其特征在于:所述过渡金属元素靶材的功率为80-120W,频率为120-150KHz,占空比为5-8%。
8.根据权利要求1所述的一种电极材料的制备方法,其特征在于:所述Ar的流量为
40sccm-50sccm,所述N2的流量为10sccm-20sccm,压强为2-3Pa,溅射时间为30min-60min,基体负偏压为50V-75V。
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