[发明专利]一种电极材料的制备方法在审

专利信息
申请号: 202310732301.2 申请日: 2023-06-20
公开(公告)号: CN116631789A 公开(公告)日: 2023-08-22
发明(设计)人: 祁正兵;魏斌斌;吴金港;侯拙;方敏杰 申请(专利权)人: 厦门理工学院
主分类号: H01G11/86 分类号: H01G11/86;H01G11/30;H01G11/24;H01G11/26
代理公司: 厦门市精诚新创知识产权代理有限公司 35218 代理人: 吴金森
地址: 361000 福建省*** 国省代码: 福建;35
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摘要:
搜索关键词: 一种 电极 材料 制备 方法
【权利要求书】:

1.一种电极材料的制备方法,其特征在于,所述电极材料为三元过渡金属氮化物电极材料,其制备方法包括以下步骤:

1)采用等离子清洗碳纸基体,得到基体A;

2)对基体A进行基体偏压自刻蚀,得到基体B;

3)对基体B的表面进行磁控溅射,得到电极材料;所述磁控溅射的靶材为Cr靶和过渡金属元素靶材;所述过渡金属元素选自V、Nb或Ti中的其中一种;所述磁控溅射的气氛为N2和Ar。

2.根据权利要求1所述的一种电极材料的制备方法,其特征在于:所述等离子清洗采用电感耦合等离子体;所述等离子清洗的源功率为250W-300W;所述等离子清洗的高偏压电源功率为100W-150W;所述等离子清洗的气氛为CF4和O2

3.根据权利要求2所述的一种电极材料的制备方法,其特征在于:所述CF4的流量为

10sccm-15sccm;所述O2的流量为15sccm-20sccm;所述O2的压强为0.25Pa-0.5Pa。

4.根据权利要求1所述的一种电极材料的制备方法,其特征在于:所述基体偏压自刻蚀的真空腔室抽至1.0×10-5Pa以下,Ar的流量为15sccm-20sccm,压强为0.1Pa-0.3Pa,基体负偏压为120V-150V,电流为0.6A-0.75A。

5.根据权利要求1所述的一种电极材料的制备方法,其特征在于:所述磁控溅射为脉冲反应磁控共溅射。

6.根据权利要求5所述的一种电极材料的制备方法,其特征在于:所述Cr靶材的电源功率为190W-220W,频率为100KHz-200KHz,占空比为5%-10%。

7.根据权利要求5所述的一种电极材料的制备方法,其特征在于:所述过渡金属元素靶材的功率为80-120W,频率为120-150KHz,占空比为5-8%。

8.根据权利要求1所述的一种电极材料的制备方法,其特征在于:所述Ar的流量为

40sccm-50sccm,所述N2的流量为10sccm-20sccm,压强为2-3Pa,溅射时间为30min-60min,基体负偏压为50V-75V。

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