[发明专利]一种多方位角下的三维溅射沉积收集装置在审

专利信息
申请号: 202310750458.8 申请日: 2023-06-25
公开(公告)号: CN116536638A 公开(公告)日: 2023-08-04
发明(设计)人: 王晓宇;苗龙;何梓豪 申请(专利权)人: 北京理工大学
主分类号: C23C14/46 分类号: C23C14/46;C23C14/34
代理公司: 北京东方盛凡知识产权代理有限公司 11562 代理人: 王宁宁
地址: 100081 *** 国省代码: 北京;11
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摘要:
搜索关键词: 一种 多方位 三维 溅射 沉积 收集 装置
【权利要求书】:

1.一种多方位角下的三维溅射沉积收集装置,包括真空仓,其特征在于,所述真空仓内设置有支撑底板(3)和射频离子推力器(1),所述支撑底板(3)的顶部可拆卸安装有溅射沉积三维收集机构,所述支撑底板(3)的顶端设置有靶材(2),所述靶材(2)设置于所述溅射沉积三维收集机构的内侧,所述射频离子推力器(1)设置于所述溅射沉积三维收集机构的上方,所述射频离子推力器(1)用于产生离子束,所述离子束用于轰击所述靶材(2)。

2.根据权利要求1所述的多方位角下的三维溅射沉积收集装置,其特征在于,所述溅射沉积三维收集机构包括沿所述靶材(2)周向设置的若干个支撑座(4),所述支撑座(4)可拆卸安装在所述支撑底板(3)上,且所述支撑座(4)位于所述靶材(2)的下方;任一所述支撑座(4)远离所述靶材(2)的一端顶部均固定连接有圆弧形支架(5),所述圆弧形支架(5)上沿竖直方向可拆卸安装有若干个金属块(6)。

3.根据权利要求2所述的多方位角下的三维溅射沉积收集装置,其特征在于,所述圆弧形支架(5)上沿竖直方向开设有若干个安装孔(7),所述安装孔(7)靠近所述靶材(2)一侧的孔径小于所述安装孔(7)远离所述靶材(2)一侧的孔径,所述金属块(6)限位安装在所述安装孔(7)内,且所述金属块(6)靠近所述靶材(2)一侧端面的弧度与所述圆弧形支架(5)的弧度相同。

4.根据权利要求3所述的多方位角下的三维溅射沉积收集装置,其特征在于,所述圆弧形支架(5)靠近所述靶材(2)一面上的所述金属块(6)所占面积不小于60%。

5.根据权利要求2所述的多方位角下的三维溅射沉积收集装置,其特征在于,所述支撑座(4)远离所述圆弧形支架(5)的一端固定连接有U型夹子(8),所述U型夹子(8)的顶面与所述支撑座(4)的顶面齐平,所述支撑座(4)通过所述U型夹子(8)与所述支撑底板(3)固定连接。

6.根据权利要求2所述的多方位角下的三维溅射沉积收集装置,其特征在于,所述金属块(6)远离所述靶材(2)的一面固定连接有连接杆(9),所述连接杆(9)上开设有夹取槽(10)。

7.根据权利要求2所述的多方位角下的三维溅射沉积收集装置,其特征在于,同一所述圆弧形支架(5)上最上方的所述金属块(6)与最下方的所述金属块(6)所对应的圆心角不小于80°且不大于90°。

8.根据权利要求2所述的多方位角下的三维溅射沉积收集装置,其特征在于,所述金属块(6)为铁块。

9.根据权利要求2所述的多方位角下的三维溅射沉积收集装置,其特征在于,所述圆弧形支架(5)由若干块圆弧片拼接而成,每块所述圆弧片上均开设有若干个用于所述金属块(6)安装的安装孔(7)。

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