[发明专利]一种栅极氧化层对准标记的装置及其形成方法

权利要求书

1.一种栅极氧化层对准标记的装置，包括硅片（1），其特征在于：

所述硅片（1）的顶部依次设有氧化硅（2）、光致抗蚀剂（3）和金属层（4），所述金属层（4）的顶部设有栅极氧化层（5）；

所述光致抗蚀剂（3）位于栅极氧化层（5）的左右两侧设有对准标记（8），所述光致抗蚀剂（3）位于栅极氧化层（5）的下方左右两侧设有用于防止金属层对对准标记（8）覆盖的挡板组件（6）。

2.根据权利要求1所述的一种栅极氧化层对准标记的装置，其特征在于：所述光致抗蚀剂（3）位于对准标记（8）上设有叠加标记（7），所述叠加标记（7）的高度等于金属层（4）和光致抗蚀剂（3）之和。

3.根据权利要求2所述的一种栅极氧化层对准标记的装置，其特征在于：所述叠加标记（7）的尺寸小于光致抗蚀剂（3）的尺寸。

4.根据权利要求2所述的一种栅极氧化层对准标记的装置，其特征在于：所述挡板组件（6）包括E型挡条（61），所述E型挡条（61）分别设置在对准标记（8）之间，所述E型挡条（61）的高度等于金属层（4）的高度。

5.根据权利要求4所述的一种栅极氧化层对准标记的装置，其特征在于：所述E型挡条（61）分别在对准标记（8）的左右两侧呈相背设置，所述E型挡条（61）内的两个水平端之间均与金属层（4）交错连接。

6.根据权利要求5所述的一种栅极氧化层对准标记的装置，其特征在于：所述挡板组件（6）还包括L型挡条（62），所述L型挡条（62）分别设置在E型挡条（61）靠近对准标记（8）一侧，所述L型挡条（62）的垂直端与光致抗蚀剂（3）相平齐。

7.根据权利要求6所述的一种栅极氧化层对准标记的装置，其特征在于：所述L型挡条（62）的水平端靠近E型挡条（61）的一侧面和对准标记（8）的边缘界面相平齐。

8.一种应用于权利要求6-7任一项所述的栅极氧化层对准标记的装置的形成方法，其特征在于：包括以下步骤：

S1、先在硅片（1）上沉积氧化硅（2），然后在氧化硅（2）上再涂光致抗蚀剂（3），之后在光致抗蚀剂（3）上喷射金属层（4）过程中，通过两边的E型挡条（61）对金属层（4）内侧容纳所需要的金属层（4）；

S2、当金属层（4）平铺在叠加标记（7）的顶端时，通过叠加标记（7）作为新的对准标记，之后通过光刻掩膜板移至在新的对准标记（8）进行显影，形成对准标记（8）图形，所述硅片（1）上温度保持在低温状态进行；

S3、当金属层（4）完全覆盖对准标记上，或者已向新的对准标记（8）也覆盖住，通过L型挡条（62）上未被覆盖的对准标记（8）可以进行对准；

S4、经曝光工艺，去除光致抗蚀剂（3）即可。