[发明专利]一种单芯片集成的微镜反馈元件有效

专利信息
申请号: 202310923645.1 申请日: 2023-07-26
公开(公告)号: CN116661130B 公开(公告)日: 2023-10-20
发明(设计)人: 白民宇;杨涛;吴建凰;苟勇;王丛华;巩少峰;张妮妮 申请(专利权)人: 西安知象光电科技有限公司
主分类号: G02B26/08 分类号: G02B26/08
代理公司: 西安智大知识产权代理事务所 61215 代理人: 弋才富
地址: 710000 陕西省西安市高新区丈八街*** 国省代码: 陕西;61
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摘要:
搜索关键词: 一种 芯片 集成 反馈 元件
【权利要求书】:

1.一种单芯片集成的微镜反馈元件,集成在微镜中,其特征在于,由发射器(3)和探测器(4)组成;

所述发射器(3)设置于微镜转动部分(1)的上部外侧边缘,探测器(4)设置于微镜固定部分(2)上部内侧边缘;在微镜静止状态下,发射器(3)的出光面与探测器(4)的进光面平行相对。

2.根据权利要求1所述的一种单芯片集成的微镜反馈元件,其特征在于,所述发射器(3)由发光单元(31)、平行光单元(32)、调向单元(33)与埋覆层(34)组成,埋覆层(34)的下表面与发光单元(31)的上表面重合,平行光单元(32)位于发光单元(31)的上方;调向单元(33)位于平行光单元(32)的上方;平光单元(32)与调向单元(33)均嵌在埋覆层(34)内部。

3.根据权利要求2所述的一种单芯片集成的微镜反馈元件,其特征在于,所述发光单元(31)包括嵌在衬底层(311)中的阱区(312),阱区(312)上表面与衬底层(311)上表面平齐,其厚度为200nm-2500nm;正端子一(313),正端子二(314)以及负端子(315)嵌在阱区(312)中,所述衬底层(311)、阱区(312)、正端子一(313)、正端子二(314)以及负端子(315)为不同掺杂浓度的同一种材料,是掺杂类型与阱区(312)相反的局部区域,负端子(315)在正端子一(313)和正端子二(314)的中间区域;在正端子一(313)和负端子(315)之间的阱区(312)的上表面覆盖有绝缘层一(316);在正端子二(314)和负端子(315)之间的阱区(312)的上表面覆盖有绝缘层二(317);在正端子一(313)的上表面覆盖有驱动电极一(318);在正端子二(314)的上表面覆盖有驱动电极二(319);在负端子(315)的上表面覆盖有驱动电极三(3112);在绝缘层一(316)的上表面覆盖有控制电极一(3110);在绝缘层二(317)的上表面覆盖有控制电极二(3111)。

4.根据权利要求3所述的一种单芯片集成的微镜反馈元件,其特征在于,所述平行光单元(32)为参数渐变的弧形柱的阵列,该阵列的外包络面构成长方体,该长方体的长度是50um~300um,宽度是50um~200um,高度是200nm~2000nm;该阵列中所有弧形柱的下表面的包络面与控制电极一(3110)和控制电极二(3111)的上表面重合;该弧形柱的阵列由两组M行N列的弧形柱的子阵列组成,分别是子阵列一和子阵列二,该两组子阵列为镜像对称,每个弧形柱的任意横截面为等尺寸弧形,每个弧形柱的高度H=100nm~2000nm,每一列中的弧形柱参数相同,每一行中的弧形柱参数渐变;在子阵列一中,第一列弧形柱截面参数如下:

圆心角α1=150°-270°,外径R1=100nm~1500nm,内径r1=R1-d,其中d=20nm~150nm;

第n列弧形柱的参数:

圆心角αn=α1-(n-1)Δα,其中Δα=0.4°~1°,外径Rn=R1-(n-1)ΔR,其中ΔR=1~5nm,内径rn=Rn-d;

第n列与第n+1列弧形柱的间距Dn=D1+(n-1)ΔD,其中D1=40nm~100nm,ΔD=1nm-5nm。

5.根据权利要求4所述的一种单芯片集成的微镜反馈元件,其特征在于,所述埋覆层(34)的下表面与发光单元(31)的衬底层(311)的上表面重合;绝缘层一(316)、绝缘层二(317)、驱动电极一(318)、驱动电极二(319)、控制电极一(3110)、控制电极二(3111)、驱动电极三(3112)、平行光单元(32)以及调向单元(33)都嵌在埋覆层(34)内部。

6.根据权利要求4所述的一种单芯片集成的微镜反馈元件,其特征在于,所述衬底层(311)的材料是单晶硅、多晶硅、非晶硅、碳化硅、氮化硅、氮化镓或者砷化镓;

所述驱动电极一(318)、驱动电极二(319)、控制电极一(3110)、控制电极二(3111)以及驱动电极三(3112)的材料是铝、铜、银、钼、钛、多晶硅、石墨烯、非晶碳,或者其中两种及以上的合金。

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