[实用新型]版盒定位锁紧装置及光刻机

说明书

本实用新型提供了一种版盒定位锁紧装置及光刻机，所述版盒定位锁紧装置包括：支撑模块，包括至少两个相对设置的支撑座，相对设置的所述支撑座相互靠近的一侧具有用于放置版盒的凹槽，所述凹槽的侧壁设置有与所述凹槽连通的通孔；压紧模块，包括转轴、弹簧和滚动轴承，所述转轴的一端穿过所述通孔进入所述凹槽中，所述弹簧插入所述通孔且环绕设置于所述转轴的外围，所述滚动轴承与所述转轴的所述一端连接，以使得所述滚动轴承的外侧壁与所述版盒的侧面接触。本实用新型的技术方案能够减少版盒与支撑模块之间摩擦产生的颗粒，且能提高版盒的定位精度，进而提高掩模版在传输过程中的质量。

技术领域

本实用新型涉及光刻领域，特别涉及一种版盒定位锁紧装置及光刻机。

背景技术

在光刻工艺中，通常使用版盒来存储与保护掩模版，其目的是保护掩模版不受外环境的污染。在正常工作时，版盒需要被频繁取放，导致版盒与其承载部件之间会摩擦磨损而产生粉尘颗粒，进而导致掩模传输分系统的洁净度得不到保证，从而影响掩模版在传输过程中的质量。

因此，如何减少版盒与其承载部件之间摩擦产生的颗粒，以提高掩模版在传输过程中的质量成为亟须解决的问题。

实用新型内容

本实用新型的目的在于提供一种版盒定位锁紧装置及光刻机，能够减少版盒与支撑模块之间摩擦产生的颗粒，且能提高版盒的定位精度，进而提高掩模版在传输过程中的质量。

为实现上述目的，本实用新型提供了一种版盒定位锁紧装置，包括：

支撑模块，包括至少两个相对设置的支撑座，相对设置的所述支撑座相互靠近的一侧具有用于放置版盒的凹槽，所述凹槽的侧壁设置有与所述凹槽连通的通孔；

压紧模块，包括转轴、弹簧和滚动轴承，所述转轴的一端穿过所述通孔进入所述凹槽中，所述弹簧插入所述通孔且环绕设置于所述转轴的外围，所述滚动轴承与所述转轴的所述一端连接，以使得所述滚动轴承的外侧壁与所述版盒的侧面接触。

可选地，所述凹槽具有第一侧壁以及与所述第一侧壁两端连接的第二侧壁，相对设置的所述支撑座的凹槽相对的侧壁为所述第一侧壁，相对设置的其中一个所述支撑座的凹槽的第一侧壁设置有至少两个所述通孔，相对设置的其中一个所述支撑座的凹槽的第二侧壁设置有至少一个所述通孔，相对设置的另一个所述支撑座的凹槽的第二侧壁设置有至少一个所述通孔，且设置有至少一个所述通孔的两个所述第二侧壁位于相对设置的两个所述支撑座的凹槽的同一侧。

可选地，所述第一侧壁垂直于所述第二侧壁。

可选地，所述转轴位于所述通孔中的侧壁上设置有第一挡板，所述弹簧的一端与所述第一挡板接触。

可选地，所述转轴的另一端位于所述通孔远离所述凹槽的一侧，所述转轴的所述另一端的外围设置有第二挡板，所述弹簧的另一端与所述第二挡板接触。

可选地，所述第二挡板与所述支撑座铆钉连接。

可选地，所述支撑模块还包括支撑平台，所述支撑座设置于所述支撑平台上。

可选地，所述版盒定位锁紧装置还包括真空吸附模块，所述真空吸附模块设置于相对设置的所述支撑座之间的支撑平台上。

可选地，所述真空吸附模块包括用于真空吸附所述版盒的吸盘和抽真空单元，所述抽真空单元与所述吸盘连通。

本实用新型还提供一种光刻机，包括：所述的版盒定位锁紧装置。

与现有技术相比，本实用新型的技术方案具有以下有益效果：