[实用新型]涡流式研磨抛光机有效
申请号: | 202320481991.4 | 申请日: | 2023-03-14 |
公开(公告)号: | CN219562630U | 公开(公告)日: | 2023-08-22 |
发明(设计)人: | 吴萍 | 申请(专利权)人: | 吴萍 |
主分类号: | B24B31/03 | 分类号: | B24B31/03;B24B31/12 |
代理公司: | 郑州坤博同创知识产权代理有限公司 41221 | 代理人: | 朱海萍 |
地址: | 523000 广东省*** | 国省代码: | 广东;44 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 涡流 研磨 抛光机 | ||
本实用新型公开一种涡流式研磨抛光机,包括有机架、底桶、上桶、主轴、驱动装置以及转盘;该底桶设置于机架上,底桶具有一开口朝上的容置腔;该上桶为中空结构,其具有一上下开口的研磨腔,上桶设与底桶的上方;该主轴竖向设置并可转动地安装在容置腔中;该驱动装置设置于底桶上并带动主轴转动;该转盘固定在主轴的上端并由主轴带动转动,转盘的周缘与研磨腔的底部开口周缘接触。通过采用本设备,由驱动装置带动主轴转动,使得转盘转动,转盘转动而带动研磨介质转动,通过研磨介质的流动,对工件表面研磨抛光处理,可缩短研磨时间,并节省大量人工,同时也提高了研磨抛光的效果和效率,为生产作业带来便利。
技术领域
本实用新型涉及抛光机领域技术,尤其是指一种涡流式研磨抛光机。
背景技术
在工业生产过程中,研磨抛光一种非常常见的表面加工工艺,通过研磨抛光,可以使得工件获得所需尺寸及表面质量,为工业品的生产带来便利。
现有技术中,对于工件的研磨抛光普遍采用的是滚桶抛光工艺或者手工研磨抛光工艺,这些工艺均存在研磨时间长,耗费大量人工,并且研磨抛光效果也不够理想。因此,有必要研究一种方案以解决上述问题。
实用新型内容
有鉴于此,本实用新型针对现有技术存在之缺失,其主要目的是提供一种涡流式研磨抛光机,其能有效解决现有之采用滚桶抛光工艺或者手工研磨抛光工艺存在研磨时间长、耗费大量人工的问题。
为实现上述目的,本实用新型采用如下之技术方案:
一种涡流式研磨抛光机,包括有机架、底桶、上桶、主轴、驱动装置以及转盘;该底桶设置于机架上,底桶具有一开口朝上的容置腔;该上桶为中空结构,其具有一上下开口的研磨腔,上桶设与底桶的上方;该主轴竖向设置并可转动地安装在容置腔中;该驱动装置设置于底桶上并带动主轴转动;该转盘固定在主轴的上端并由主轴带动转动,转盘的周缘与研磨腔的底部开口周缘接触。
优选的,所述驱动装置包括有研磨电机和皮带传动机构,该研磨电机通过皮带传动机构带动主轴转动。
优选的,所述主轴上固定有托盘,该托盘抵于转盘的底部上。
优选的,所述转盘具有一凹腔,该凹腔与研磨腔上下正对连通,该凹腔的中心设置有胶盖,该胶盖与主轴固定连接。
优选的,所述底桶通过转轴可翻转地设置于机架上,该转轴由翻转电机带动转动,该翻转电机固定于机架上。
优选的,所述机架上设置有抽风装置。
本实用新型与现有技术相比具有明显的优点和有益效果,具体而言,由上述技术方案可知:
通过采用本设备,由驱动装置带动主轴转动,使得转盘转动,转盘转动而带动研磨介质转动,通过研磨介质的流动,对工件表面研磨抛光处理,可缩短研磨时间,并节省大量人工,同时也提高了研磨抛光的效果和效率,为生产作业带来便利。
附图说明
图1是本实用新型之较佳实施例的立体示意图;
图2是本实用新型之较佳实施例另一角度的立体示意图;
图3是本实用新型之较佳实施例的截面图;
图4是本实用新型之较佳实施例的另一截面图。
附图标识说明:
10、机架 20、底桶
21、容置腔 22、转轴
30、上桶 31、研磨腔
40、主轴 50、驱动装置
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