[发明专利]控制处理液分布边缘的方法和装置无效
申请号: | 85102101.8 | 申请日: | 1985-04-01 |
公开(公告)号: | CN1004385B | 公开(公告)日: | 1989-05-31 |
发明(设计)人: | 詹姆斯·J·利文斯通 | 申请(专利权)人: | 拍立得公司 |
主分类号: | G03D9/00 | 分类号: | G03D9/00;G03D3/00 |
代理公司: | 中国专利代理有限公司 | 代理人: | 匡少波 |
地址: | 美国马萨诸塞州02*** | 国省代码: | 暂无信息 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 控制 处理 分布 边缘 方法 装置 | ||
背景技术
本发明一般地说是涉及控制处理液供应的方法和设备。实际上,本发明是涉及在靠拢的两层胶片之间的处理液分布边缘的控制方法和设备,刚好在胶片彼此叠在一起之前加以控制。
形形色色的自显影照相方法大致包括在已曝光的照相底片上加一层粘性液体试剂。在该方法中,最典型的作法是,感光底片首先曝光,然后与第二层胶片叠合。两层叠好的底片再在一对并列的加压部件之间移动。加压部件的建造和安装的目的是将处理液从一团扩散成层近似于均匀的膜层,盖在两层底片中已曝光的部分。如此均匀扩散的处理液能够导致可见图象的形成。
在这种工艺中出现了一些与处理液分布有关的值得注意的问题。一个问题是要在底片的曝光面积上复盖足够数量的处理液。其明显的原因是,要形成完美的图像正确的洗印液数量及复盖在曝光面积上的处理液涂敷均匀是关键。其次,把处理液限制在底片所需的侧边内也是重要的。另一方面,超出该边缘而流下的处理液将会污染加压辊和其他与感光底片的处理有关的设备。分布在其处的处理液的数量随时都可能由于该处理液粘度变化而变化。因此,当要调节控制处理液的数量时。这些变化可能增加或减少分配量。既要避免使处理液侧向边缘溢出底片的侧边,又要为了得到完美的显影而使处理液盖满曝光面,这就会出现一些值得重视的问题。当要处理大量的底片,同时底片的侧边与底片曝光面之间只有相当窄的间隙时。以上这些考虑就特别重要。
控制这种处理液的分布有许多方法。一种方法是在底片上装一种有边轨的设备。它使多余的处理液限制在侧边内。另一种方法是美国专利3,120,794号中公开的一种处理辊筒。它有一对轴向隔开的密封元件使涂敷的处理液限制在底片的侧边内。美国专利3,307,467号中公开一种偏置弹簧加压元件,它防止当底片通过加压元件隙缝时液体从底片侧边溢出。美国专利4,162,834号公开了一对侧向隔开的喷咀元件,它们在纵向处理液槽的两端吹入空气流。美国专利2,563,343号公开了一种将处理液控制在底片侧边内的方法。在该方法中,提供了一种液体调整系统。在其中的一种样式中有一对隔开的电接点,分别安装在底片上存液空间的边缘。这些触点顶着叠在一起的两层底片中的一层的边缘。通常接点碰不着处理液。但当处理液过多而超过存液范围时,就有可能使两个开点接通。随之在两接点间出现电连接,使电磁线圈工作从而打通某一个开关。该开关负责一个阀门的工作,从而抑制处理液的分布。美国专利2,719789号公开了类似的方法。用它可以阻止液体超出处理底片的侧边。它所公开的内容是在薄膜底片上沿每一个侧边装上一个接一个的导电条。导电条与被隔开的刷子配合而构成电控制电路的一部分。当处理液复盖住两个导电条时,电路动作,控制电磁线圈,接着,电磁线圈控制一个阀门,限制处理液流动。
然而,所说的这些控制方法中没有一种装置能简单而方便地控制处理液使分布在照相底片侧边紧挨着的面积内,更不用说有一种控制方法能可靠地将处理液分布边缘控制在底片预定范围内。此处预定范围的一个边紧挨着底片的侧边,另一边紧挨底片的曝光部分。
发明的概要
本发明提供了一种控制加到底片上的处理液的改造方法和设备。该方法包括提供处理材料给照相底片和检测底片上参考面的步骤。在检测步骤中至少有一束测试能量输到参考面,并产生反映由参考面上来的反射能束的测试特性变化的信号。信号表明在面上有材料或没有材料。本方法还包括根据产生的信号,改变加到底片上的处理材料的输出量,使参考面回复到产生信号之前状态的步骤。
在所列举的将处理液分布到照相底片上的其他方法的实施例中。这些方法控制分布处理液的边缘在底片的预定范围内。范围的一个边紧挨着底片的侧边,另一边紧挨着底片上曝光的部分。本方法包括把处理液分布到照相底片上,使液流边缘处在予定的范围内。用至少一束测试能发射给参考面并交替产生第一和第二信号,分别反映该面积中的能束被材料遮断或不遮断。分布在底片上的处理液的输出量根据所说的第一和第二信号的交替出现而交替地增加和降低,从而使液体边缘保持在预定范围内。
本发明要用的能束是红外线。它与照相底片不起光化作用。
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