[其他]控制处理液分布边缘的方法和装置无效

专利信息
申请号: 85102101 申请日: 1985-04-01
公开(公告)号: CN1004385B 公开(公告)日: 1989-05-31
发明(设计)人: 詹姆斯·J·利文斯通 申请(专利权)人: 拍立得公司
主分类号: 分类号:
代理公司: 中国专利代理有限公司 代理人: 匡少波
地址: 美国马萨诸塞州02*** 国省代码: 暂无信息
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摘要:
搜索关键词: 控制 处理 分布 边缘 方法 装置
【权利要求书】:

1、一种将处理材料加到照相底片上以便控制所加材料的方法,它包括以下具有特色的步骤:

把处理材料加到照相底片上;

检测底片上的参考面,所说的检测步骤包括至少将一束测试能发送给参考面并产生一个信号表示来自该参考面的能束的测试特性变化,该信号表示在参考面上有材料或没有材料;和

根据所产生的信号使加到底片上的处理材料的输出改变,以便使参考面回复到信号产生之前的状态。

2、一种将处理材料分布到照相底片上以便控制流体分布边缘使位于底片上预先选定的范围的方法,底片上所选定的范围的一边紧挨着底片的一个侧边,另一边紧挨着底片上已曝光的部分,其步骤包括:

将处理液分布到照相底片上,使流体边缘能够流到预定范围;

检测预定范围中的参考面,所说的检测步骤包括至少将一束测试能发射到参考面并交替产生第一和第二信号分别表征该面积上的能束被材料遮断和不遮断;和

根据所说的交替产生的第一和第二信号使分布在底片上的处理液输出交替地减少和增加,以便使流体的边缘保持在预定范围内。

3、权利要求2的方法中所说的检测步骤包括发射一束不与照相底片产生反应的能束。

4、权利要求3的方法中所说的能束是不与照相底片起光化作用的红外线。

5、一种将处理材料加到照相底片上以便控制所加材料输出的装置,它包括:

将处理材料供给照相底片材料的设备;

检测底片上参考面的检测设备,所说的检测设备包括将至少一束测试能发射到参考面上并产生一种响应从该面上反射回来的测试能束特性变化的信号,信号变化代表在该面积上有材料或没有材料;和

根据所说的信号使加到底片上的处理液输出变化,从而使参考面回到所说的变化发生之前的状态的设备,正是这种流体引起的变化引起反射能测试特性的变化。

6、权利要求5的装置中所说的发射能的设备所发射的能束与照相底片不起光化作用。

7、权利要求6的装置中所说的将能束发射给参考面和产生一种代表从该面积来的反射能变化的信号的设备是一种光学检测装置,所说的光学检测设备发射一束不与照相底片起光化作用的一束射线,同时,该检测设备检测射线束的反射部分,因而,当所说的反射束被流体遮断时,反射束的测试特性发生变化。

8、权利要求5的装置中所说的响应设备包括改变流体输出的泵和与泵相连的控制装置,它根据所说的信号改变输出。

9、将流体分布到照相底片上,以便控制流体边缘分布在底片上的预定范围内的装置,该预定范围的一个边紧挨着底片的侧边,另一个边紧挨着底片已曝光的部分,装置包括:

将处理液分布到照相底片上以便使流体的边缘达到预定范围的设备,

检测预定范围中参考面的检测设备,所说检测设备包括将至少一束测试能发射到参考面并交替产生第一和第二信号分别表征该面积中的发射能束被流体遮断和不遮断的设备;和

分别根据所说的第一和第二信号使分布在底片上的处理液交替地增加和减少,以便使流体的边缘落在预定范围内的设备。

10、一种把流体涂敷在移动的感光材料条带上给定的宽度内的方法,但在所说的移动条带的侧边上不得有所说的流体,该方法包括以下的步骤:

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