[其他]分子筛合成物无效
申请号: | 85103199 | 申请日: | 1985-04-25 |
公开(公告)号: | CN85103199A | 公开(公告)日: | 1986-10-22 |
发明(设计)人: | 弗拉尼金;布伦特;佩顿;威尔逊 | 申请(专利权)人: | 联合碳化公司 |
主分类号: | B01J27/14 | 分类号: | B01J27/14;B01J29/02;C01B15/16;B01D15/08;C10G65/12 |
代理公司: | 中国专利代理有限公司 | 代理人: | 罗宏,刘元金 |
地址: | 美国*** | 国省代码: | 暂无信息 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 分子筛 合成物 | ||
1、具有MO2,AlO2和PO2四面体单元的三维微孔骨架结构的结晶分子筛,其经验化学组成(干基)可用于下式表达:
mR∶(MxAlyPz)O2
式中“R”表示至少一种存在于结晶内孔系统中的有机模板剂;“m”表示每个摩尔(MxAlyPz)O2所具有的R的摩尔数,其值为0-0.3;“M”表示选自包括砷、铍、硼、铬、镓、锗、锂和钒一组中的至少一个元素;“x”、“y”和“z”分别表示作为四面体氧化物形式存在的“M”、铝和磷的摩尔份额。上述摩尔份额位于图1中A、B、C、D和E点所确定的五边形组成区域内。
2、按照权利要求1中的分子筛,其中作为四面体氧化物形式存在的“M”、铝和磷的摩尔份额,位于图2中的a、b、c、d、e和f点所确定的六边形组成区域内。
3、权利要求1中的结晶分子筛,其中“M”是砷。
4、权利要求1中的结晶分子筛,其中“M”是铍。
5、权利要求1中的结晶分子筛,其中的“M”是硼。
6、权利要求1中的结晶分子筛,其中的“M”是铬。
7、权利要求1中的结晶分子筛,其中的“M”是镓。
8、权利要求1中的结晶分子筛,其中的“M”是锂。
9、权利要求1中的结晶分子筛,其中的“M”是钒。
10、权利要求1或2中具有下列特征的结晶分子筛,其X射线粉末衍射谱图中,至少含有的晶面间距-d示于表A。
11、权利要求1或2中具有下列特征的结晶分子筛,其X射线粉末衍射谱图中,至少含有的晶面间距-d示于表B。
12、权利要求1或2中具有下列特征的结晶分子筛,其X射线粉末衍射谱图中,至少含有的晶面间距-d示于表C。
13、权利要求1或2中具有下列特征的结晶分子筛,其X射线粉末衍射谱图中,至少含有的晶面间距-d示于表D。
14、权利要求1或2中具有下列特征的结晶分子筛,其X射线粉末衍射谱图中,至少含有的晶面间距-d示于表E。
15、权利要求1或2中具有下列特征的结晶分子筛,其X射线粉末衍射谱图中,至少含有的晶面间距-d示于表F。
16、权利要求1或2中具有下列特征的结晶分子筛,其X射线粉末衍射谱图中,至少含有的晶面间距-d示于表G。
17、权利要求1或2中具有下列特征的结晶分子筛,其X射线粉末衍射谱图中,至少含有的晶面间距-d示于表H。
18、权利要求1或2中具有下列特征的结晶分子筛,其X射线粉末衍射谱图中,至少含有的晶面间距-d示于表J。
19、权利要求1或2中具有下列特征的结晶分子筛,其X射线粉末衍射谱图中,至少含有的晶面间距-d示于表K。
20、权利要求1或2中具有下列特征的结晶分子筛,其X射线粉末末射谱图中,至少含有的晶面间距-d示于表L。
21、权利要求1或2中具有下列特征的结晶分子筛,其X射线粉末衍射谱图中,至少含有的晶面间距-d示于表M。
22、权利要求1或2中具有下列特征的结晶分子筛,其X射线粉末衍射谱图中,至少含有的晶面间距-d示于表N。
23、权利要求1或2中具有下列特征的结晶分子筛,其X射线粉末衍射谱图中,至少含有的晶面间距-d示于表O。
24、权利要求1或2中具有下列特征的结晶分子筛,其X射线粉末衍射谱图中,至少含有的晶面间距-d示于表P。
25、权利要求1或2中具有下列特征的结晶分子筛,其X射线粉末衍射谱图中,至少含有的晶面间距-d示于表Q。
26、权利要求1或2中具有下列特征的结晶分子筛,其X射线粉末衍射谱图中,至少含有的晶面间距-d示于表R。
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