[其他]锌-铝-磷-硅-氧化物分子筛组合物

权利要求书

1、结晶态分子筛，具有ZnO₂、AlO₂、PO₂及SiO₂四面体单元的三维微孔构架结构并在脱水后具有下式表示的经验化学组成者：

其中，“R”代表存在于晶体内微孔系统中的至少一种有机择型剂：“m”代表每摩尔(Zn_wAl_xP_ySi_z)O₂时所存在的“R”的摩尔数且其值为0至0.3左右；“w”、“x”、“y”和“z”分别代表以四面体氧化物形式存在的锌、铝、磷及硅的摩尔份数，这些摩尔份数均在附图1中A、B、C、D和E各点所限定的五边形组成面积之内。

2、权利要求之第1项所述的结晶态分子筛，其中以四面体氧化物形式存在的锌、铝、磷及硅的摩尔分数均在附图2中a、b、c和d各点所限定的四边形组成面积之内。

3、权利要求书之第一项或第二项所述的结晶态分子筛，其特征X射线粉末衍射花样至少具有表A中所列的d-间隔。

4、权利要求书之第一项或第二项所述的结晶态分子筛，其特征X射线粉末衍射花样至少具有表B中所列的d-间隔。

5、权利要求书之第一项或第二项所述的结晶态分子筛，其特征X射线粉末衍射花样至少具有表C中所列的d-间隔。

6、权利要求书之第一项或第二项所述的结晶态分子筛，其特征X射线粉末衍射花样至少具有表D中所列的d-间隔。

7、权利要求书之第一项或第二项所述的结晶态分子筛，其特征X射线粉末衍射花样至少具有表E中所列的d-间隔。

8、权利要求书之第一项或第二项所述的结晶态分子筛，其特征X射线粉末衍射花样至少具有表F中所列的d-间隔。

9、权利要求书之第一项或第二项所述的结晶态分子筛，其特征X射线粉末衍射花样至少具有表G中所列的d-间隔。

10、权利要求书之第一项或第二项所述的结晶态分子筛，其特征X射线粉末衍射花样至少具有表H中所列的d-间隔。

11、权利要求书之第一项或第二项所述的结晶态分子筛，其特征X射线粉末衍射花样至少具有表J中所列的d-间隔。

12、权利要求书之第一项或第二项所述的结晶态分子筛，其特征X射线粉末衍射花样至少具有表K中所列的d-间隔。

13、权利要求书之第一项或第二项所述的结晶态分子筛，其特征X射线粉末衍射花样至少具有表L中所列的d-间隔。

14、权利要求书之第一项或第二项所述的结晶态分子筛，其特征X射线粉末衍射花样至少具有表M中所列的d-间隔。

15、制备权利要求书之第一项所述结晶态分子筛的方法，该方法为在可行的温度下及可行的反应时间内提供一种反应混合物的组成该组成用摩尔氧化物比率表示如下：

aR∶（Zn_wAl_xP_ySi_z）∶bH₂O

其中，“R”是一种有机择型剂：“a”是“R”的量且为O或者大于0至6左右的可行量;b的值为0至500左右;而“w”、“x”“y”和“z”则分别代表在（Zn_wAl_xP_ySi_z）O₂构分中锌、铝、磷及硅的摩尔份数，其值各至少为0.01，依此制得权利要求1所述的分子筛。

16、权利要求书之第15项所述的方法，其中“w”、“x”“y”及“z”均在附图3中F、G、H、I及J各点所限定的面积之内。

17、权利要求书之第15项所述的方法，其中反应混合物中的磷来源为正磷酸。

18、权利要求书之第15项所述的方法，其中反应混合物中的磷来源为正磷酸而铝的来源为至少一种选自假勃姆石和烷醇铝这组中的化合物。

19、权利要求书之第18项所述的方法，其中烷醇铝为三异丙氧基铝。