[发明专利]光电池无效
申请号: | 85103355.5 | 申请日: | 1985-05-13 |
公开(公告)号: | CN1003150B | 公开(公告)日: | 1989-01-25 |
发明(设计)人: | 深津猛夫;武内胜;后藤一幸 | 申请(专利权)人: | 三洋电机株式会社 |
主分类号: | H01L31/04 | 分类号: | H01L31/04;H01L21/203 |
代理公司: | 中国专利代理有限公司 | 代理人: | 何光元 |
地址: | 日本*** | 国省代码: | 暂无信息 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 光电池 | ||
1、一种把光能变换为电能的光生伏特电池,具有透光性的基片,在上述基片上的透光性的第1电极层,在上述第1电极层上的第1导电型的第1半导体层、在上述第1半导体层上的第1导电型的第2半导体层、在上述第2半导体层上的第2导电型的第3半导体层、在上述第3半导体层上的第3导电型的第4半导体层,以及在上述第4半导体层上的第2电极层,本发明的特征是,上述第1半导体层的厚度t1为25A<t1<300A,而上述第2半导体层的厚度t2为1000A<t2<1000A;在上述第1及第2半导体层生成多数载流子的激活电能分别是在0.3eV以下及0.3eV以上。
2、根据权利要求1所述的光生伏特电池,其特征在于,上述第1及第2半导体层的光能带间隙大于上述第3半导体层的光能带间隙,而上述第1半导体层的光能带间隙则大于上述第2半导体层的光能带间隙。
3、根据权利要求2所述的光生伏特电池,其特征在于,上述第1、第2及第3导电型分别为P、I及N型,上述第1半导体层是由微晶硅或者铂族元素的氧化物组成的。
4、根据权利要求2所述的光生伏特电池,其特征在于,上述第3半导体层是I型的非晶硅。
5、根据权利要求2所述的光生伏特电池,其特征在于,上述第2半导体层在照射强度为100mW/cm2的赤道太阳光谱(AM-1)的照射下,具有10-5Ω-1cm-1以上的光电导率。
6、根据权利要求3所述的光生伏特电池,其特征在于,上述微晶硅层是用溅射方法形成的。
7、根据权利要求3所述的光生伏特电池,其特征在于,上述氧化物是氧化铱。
8、根据权利要求7所述的光生伏特电池,其特征在于,上述第2半导体层是非晶碳化硅。
9、根据权利要求8所述的光生伏特电池,其特征在于,上述非晶碳化硅层的含碳量是从接近上述第1半导体层的一侧向接近上述第2半导体层的一侧递减,而光能带间隙则随着含碳量的减少而减小。
10、根据权利要求1所述的光生伏特电池,其特征在于,上述第1半导体层的厚度较好为30-200A。
11、根据权利要求1所述的光生伏特电池,其特征在于,上述第1半导体层的厚度最好为40-150A。
12、根据权利要求1所述的光生伏特电池,其特征在于,上述第2半导体层的厚度较好为300-700A。
13、根据权利要求1所述的光生伏特电池,其特征在于,上述第2半导体层的厚度最好取为40-600A。
14、一种把光能变换为电能的光生伏特电池,具有透光性的基片,在上述基片上的透光性的第1电极层,在上述第1电极层上的第1导电型的第1半导体层、在上述第1半导体层上的第1导电型的第2半导体层、在上述第2半导体层上的第2导电型的第3半导体层、在上述第3半导体层上的第3导电型的第4半导体层,以及在上述第4半导体层上的第2电极层,本发明的特征是,上述第1、第2及第3的导电型分别为P、I及N型,上述第1半导体层则由微晶硅或者铂族元素的氧化物组成。
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H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L31-00 对红外辐射、光、较短波长的电磁辐射,或微粒辐射敏感的,并且专门适用于把这样的辐射能转换为电能的,或者专门适用于通过这样的辐射进行电能控制的半导体器件;专门适用于制造或处理这些半导体器件或其部件的方法或
H01L31-02 .零部件
H01L31-0248 .以其半导体本体为特征的
H01L31-04 .用作转换器件的
H01L31-08 .其中的辐射控制通过该器件的电流的,例如光敏电阻器
H01L31-12 .与如在一个共用衬底内或其上形成的,一个或多个电光源,如场致发光光源在结构上相连的,并与其电光源在电气上或光学上相耦合的