[发明专利]光电池无效

专利信息
申请号: 85103355.5 申请日: 1985-05-13
公开(公告)号: CN1003150B 公开(公告)日: 1989-01-25
发明(设计)人: 深津猛夫;武内胜;后藤一幸 申请(专利权)人: 三洋电机株式会社
主分类号: H01L31/04 分类号: H01L31/04;H01L21/203
代理公司: 中国专利代理有限公司 代理人: 何光元
地址: 日本*** 国省代码: 暂无信息
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摘要:
搜索关键词: 光电池
【权利要求书】:

1、一种把光能变换为电能的光生伏特电池,具有透光性的基片,在上述基片上的透光性的第1电极层,在上述第1电极层上的第1导电型的第1半导体层、在上述第1半导体层上的第1导电型的第2半导体层、在上述第2半导体层上的第2导电型的第3半导体层、在上述第3半导体层上的第3导电型的第4半导体层,以及在上述第4半导体层上的第2电极层,本发明的特征是,上述第1半导体层的厚度t1为25A<t1<300A,而上述第2半导体层的厚度t2为1000A<t2<1000A;在上述第1及第2半导体层生成多数载流子的激活电能分别是在0.3eV以下及0.3eV以上。

2、根据权利要求1所述的光生伏特电池,其特征在于,上述第1及第2半导体层的光能带间隙大于上述第3半导体层的光能带间隙,而上述第1半导体层的光能带间隙则大于上述第2半导体层的光能带间隙。

3、根据权利要求2所述的光生伏特电池,其特征在于,上述第1、第2及第3导电型分别为P、I及N型,上述第1半导体层是由微晶硅或者铂族元素的氧化物组成的。

4、根据权利要求2所述的光生伏特电池,其特征在于,上述第3半导体层是I型的非晶硅。

5、根据权利要求2所述的光生伏特电池,其特征在于,上述第2半导体层在照射强度为100mW/cm2的赤道太阳光谱(AM-1)的照射下,具有10-5Ω-1cm-1以上的光电导率。

6、根据权利要求3所述的光生伏特电池,其特征在于,上述微晶硅层是用溅射方法形成的。

7、根据权利要求3所述的光生伏特电池,其特征在于,上述氧化物是氧化铱。

8、根据权利要求7所述的光生伏特电池,其特征在于,上述第2半导体层是非晶碳化硅。

9、根据权利要求8所述的光生伏特电池,其特征在于,上述非晶碳化硅层的含碳量是从接近上述第1半导体层的一侧向接近上述第2半导体层的一侧递减,而光能带间隙则随着含碳量的减少而减小。

10、根据权利要求1所述的光生伏特电池,其特征在于,上述第1半导体层的厚度较好为30-200A。

11、根据权利要求1所述的光生伏特电池,其特征在于,上述第1半导体层的厚度最好为40-150A。

12、根据权利要求1所述的光生伏特电池,其特征在于,上述第2半导体层的厚度较好为300-700A。

13、根据权利要求1所述的光生伏特电池,其特征在于,上述第2半导体层的厚度最好取为40-600A。

14、一种把光能变换为电能的光生伏特电池,具有透光性的基片,在上述基片上的透光性的第1电极层,在上述第1电极层上的第1导电型的第1半导体层、在上述第1半导体层上的第1导电型的第2半导体层、在上述第2半导体层上的第2导电型的第3半导体层、在上述第3半导体层上的第3导电型的第4半导体层,以及在上述第4半导体层上的第2电极层,本发明的特征是,上述第1、第2及第3的导电型分别为P、I及N型,上述第1半导体层则由微晶硅或者铂族元素的氧化物组成。

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