[其他]光学信息记录材料及其制造方法无效
申请号: | 85105409 | 申请日: | 1985-07-15 |
公开(公告)号: | CN85105409A | 公开(公告)日: | 1987-01-14 |
发明(设计)人: | 木村邦夫;高尾正敏;赤平信夫;竹永睦生 | 申请(专利权)人: | 松下电器产业株式会社 |
主分类号: | G11B7/26 | 分类号: | G11B7/26 |
代理公司: | 中国专利代理有限公司 | 代理人: | 李先春 |
地址: | 日本大阪府门*** | 国省代码: | 暂无信息 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 光学 信息 记录 材料 及其 制造 方法 | ||
本发明涉及了应用光,热高速高密度记录光学信息和能再现的光学信息记录材料。
利用激光光线,实现高密度信息的记录、再现技术是公知的。作为用于该记录再现的媒介物,在基板上设置以TeOx1为主要成分的薄膜。该TeOx1(O<X1<2)是Te和TeO2之混合物(公开专利公报昭和50-46317,公开专利公报昭和50-46318,公开专利公报昭和50-46319,美国专利第3971874号说明书)。使用PbOx5(O<X5<1),SbOx6(O<X6<1.5)、VOx7(O<X7<2.5)作为添加成分。该记录媒介物在再现用的光束照射时,可以使穿透率变化大。
但是,企图使记录再现装置小型化、简易化时,所得到的激光光源之输出功率是有限的,使用20毫瓦以内小型输出功率的He-Ne激光器、半导体激光器等,实现记录再现方面,在先有技术中以TeOx(O<X<2)为主要成分制备的薄膜作为记录媒介物,其灵敏度是不够的。并且,以反射光量值变化重现信息时,也不能得到充分的变化量。
其次,作为弥补上述缺点的方法,在TeOX(O<X<2)中应用融点低的辅加材料,试图使状态变化的临界温度下降,比如有添加TlOx(O<X<1.5)(Tl2O融点300℃)之方法。
一方面,为使状态变化时,光学特性的变化增大,有一种能使媒介物的折射率变大的方法。据此,使用离子极化率大且密度大的添加材料进行试验。例如,BiOx2、InOx2(O<X2<1.5)等(特愿昭53-109002,特愿昭54-71506)。用这些方法,把TeOx作为主要成分的记录媒介物,由半导体激光器形成记录、靠反射光量变化再现等是可能的。
然而,随着信息社会的发展,以至当信息传递要求更快时,记录再现速度也更高了。随之,提高记录灵敏度也越来越必要了。
本发明提供了这样一种光学信息记录材料,先有技术的TeO2和Te形成混合物TeOx作为主要成分的光学记录膜得到改善,保留TeOx薄膜的长处,比如耐潮湿性能好等优点的同时,与先有技术相比较,大大提高了记录速度和记录灵敏度。
本发明的光学信息记录材料,其特征为在基板上形成的光学记录膜,至少由Te、O、Pd三种元素构成,前述三种元素膜中的原子数比例是,Pd含5~40%(原子数)、O含20~60%(原子数)。
根据本发明产生的光学信息记录材料,至少由Te、O、Pd组成。Pd的含量为5~40%(原子数)(理想的为8~35%(原子数));并且,O的含量为20~60%(原子数)(理想的为30~55%(原子数)),把在该范围中构成的薄膜作为光学记录膜。由于上述发明,在记录速度、CN比方面大大胜过以前具有TeOx薄膜的光学信息记录材料,而且具备优越的耐潮湿性。
第1图表示本发明的光学信息记录材料的一个实施例的主要部位剖面图;第2图是用本发明制的光盘上记录、重现信息信号的装置略图。
1-基板、2-记录薄膜。
TeO2和Te的混合物TeOx薄膜,如果照射激光等高密度光后,其光学常数变化,形成黑色可见点。利用这个变化理应对信息进行光学记录、再现。但是,这个变化经过光照→吸收→温升过程,膜中Te粒子的状态变化,即认为可能是由于晶粒成长而产生的光学变化。因此,为了提高记录速度,使这种状态变化如何快速完成,则是要考虑的重大因素。但是,先有技术中的TeOx系列薄膜在记录时,Te粒子发生状态变化时,由于TeO2有势垒阻挡层,为得到稳定的结晶状态,结构上的缓解是需要一些时间的。这样形成的记录材料作为信息、记录图象之类情况时没有什么问题,但是用于作为需高速响应的电子计算机磁盘时,不得不增加设备设计上的限制。
本发明基于现状把在Te和TeO2的混合物TeOx中添加了Pd成分作为基本构成的薄膜作记录层,并且根据控制膜中Te、O、Pd原子数的比例,比起先有技术TeOx系列记录薄膜,可用短得多的时间完成记录,也就是说,可以得到速度要高得多的记录、再现的光学记录媒介物。
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