[其他]信息记录介质盘及其制备方法无效

专利信息
申请号: 85106617 申请日: 1985-09-02
公开(公告)号: CN85106617A 公开(公告)日: 1987-03-25
发明(设计)人: 系长诚 申请(专利权)人: 日本胜利株式会社
主分类号: G11B7/26 分类号: G11B7/26
代理公司: 中国国际贸易促进委员会专利代理部 代理人: 余刚
地址: 日本神奈*** 国省代码: 暂无信息
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要:
搜索关键词: 信息 记录 介质 及其 制备 方法
【说明书】:

本发明涉及一种信息记录介质盘及其制备方法,其中,在跟踪控制操作中使用予先制备的跟踪参考信号产生导槽在下述情况之一生效,或是在两种情况时都生效,即:当记录与信息记录介质盘的记录层有关的信息信号时,以及从信息记录介质盘的记录层中再生信息信号时,这样,其槽的宽度可由另一信息信号改变。

随着目前在各种技术领域中对高密度记录和信息信号的再生的高度要求,已经提出了各种形式的信息记录介质来高密度记录和再生信息信号。

作为信息记录介质,由于该介质可使信息信号容易地记录及再生,而且记录的信息信号可容易地擦去以便重新记录(重写)信息信号,众所周知,磁记录介质通常是由铁磁体材料构成记录层。然而,最近作为能记录、再生和重新记录的信息记录介质,已经提出了一种在衬底上带有记录层的信息记录介质,上述的记录层是由诸如TeOx、Ge、Sn等材料制成的,在材料上加电磁波或电场或是加热而产生从无定形态到晶体态的相变,或是从晶体态到无定形态的相变,或者信息记录介质中的记录层是在衬底上制成,上述的记录层是由磁性膜构成,(磁性膜是:MnBi、MnCuBi GdCO)使受到热磁记录(如所谓的居里点温度记录或补偿温度记录)。这种信息记录介质已有效地用在记录和再生信息信号中,它的密度具有比采用一般磁记录介质的通常记录和信息信号的密度高得多。

而随之带来的问题是跟踪间距必须缩窄,这样才能满意地实现信息信号的高密度记录和再生,然而在这种窄跟踪间距的情况下,很难精确地追踪一个记录单元,一个再生单元或信息记录介质中的记录槽上的记录和再生单元。因此,采用了各种跟踪控制方法以图解决上述的问题。这个建议依旧包含着需要较高等级的记录密度的问题,作为记录装置,需要极高机械精度的装置,以防止在记录过程中记录槽的越位问题,结果是装置材料昂贵。

克服上边提到问题的方法已经被提出了。即是,在一盘型信息记录介质中(一信息记录介质盘)它采用了一很好的光点来实现记录和再生信息信号,在跟踪控制操作中使用予先制备的跟踪参考信号产生导槽或是在下述情况之一生效,或是在两种情况都生效,即:当记录与信息记录介质盘的记录层有关的信息信号时,以及从信息记录介质盘的记录层中再生信息信号时,如日本专利57643/83中所公开的那样。

如果信息记录介质盘中跟踪参考信号产生导槽,(其中信号产生导槽如前边所述,是予先制备好的)。只是用于产生跟踪参考信号,则这将使槽提供予先确定的宽度和深度得到满足。然而,通常情况下,只利用上述跟踪参考信号产生导槽的一部分,该部分事先定好来记录(在不可擦模式中)其它信息信号。例如,地址信号,速度控制信号及其它所需信号。

特别是,如上述所述的,跟踪参考信号产生导槽的一部分是用于固定地记录那里的其它信息信号,到目前为止采用的记录其它信号的模式是如图5所示。跟踪参考信号产生导槽的深度是由要记录在那里的其它信息信号改变的。

图5(a)是一个平面图,示出了一个在信息记录介质盘中的跟踪参考信号产生导槽,图5(b)是沿图5(a)的线A-A的纵向剖面侧视图。

在跟踪参考轨道信号产生导槽中记录的其它信息信号是根据如图5中示出的深度差别记录的,在信息记录介质盘中,其它信息信号是按槽出现和不出现的状态来记录的。因此,在一再生装置中,其它的信息信号可由读出光束的衍射量的差别来读出。

另外,在与信息信号“1”相应的部分中,光反射之间的差别作为信息记录介质盘的记录层中记录的记录和再生的目标,这就提供了记录层〔例如由TeOx、Ge、Sn,材料制成的记录层从而产生了从无定形态到晶态的相变,或是从晶态到无定形态的相变,或者记录层是由磁膜形成的(例如形成磁膜的材料是Mn、Bi、MnCuBiCdCO)受到热磁记录(如所谓的居里点温度记录,或是补偿温度记录)〕,与信息信号“0”相应的部分的光的反射率很低,最大是百分之25。

下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于日本胜利株式会社,未经日本胜利株式会社许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/85106617/2.html,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top