[其他]高反差正性光致抗蚀剂显影的方法

权利要求书

1、一种对正性辐照敏感的包括有苯醌二叠氮基磺酸衍生物和碱可溶性树脂组成的抗蚀剂膜，这种抗蚀剂膜巳涂布在衬底上，并经辐照曝光后，为形成一表面凹凸图形的显影法，该显影法包括：

(a)使曝光抗蚀剂膜同含有以显影液的重量计0.001%～1.0%的表面活性剂的含水碱性预处理溶液接触，其中所说的表面活性剂是从碳氟化合物或羧化物表面活性剂和足以提供碱度的基础成分组成的基团中选取的。

(b)从工序(a)得到的预处理薄膜经水的清洗。

(c)从工序(b)得到的巳预处理抗蚀剂膜同PH值至少为9和至少含有以显影液重量计0.0001%的表面活性剂的含水显影溶液接触，其中所说的表面活性剂是由碳氟化合物或羧化合物的表面活性剂组成的基团中选取的，以便溶解所说抗蚀剂膜的曝光部分。

2、根据权利要求1所述的方法，其特征在于其中工序（a）的预处理溶液的碱性浓度是工序（c）显影溶液的碱性浓度的10%～75%。

3、根据权利要求1所述的方法，其特征在于其中表面活性剂是占显影液的总重量计的0.001%～0.1%范围内。

4、根据权利要求1所述的方法，其特征在于其中工序（a）中的预处理溶液的碱度由加入氢氧化钾作调整。

5、根据权利要求1所述的方法，其特征在于其中工序（a）中的预处理溶液的碱度由加入碳酸钾作调整。

6、根据权利要求1所述的方法，其特征在于其中工序（a）和（c）中所应用的表面活性剂是碳氟化合物表面活性剂和由化学公式R_f-y-（CH₂CH₂O）_mR所表示组分，其中y是从基团-CH₂CHO-、-SO₂NR′、SO₃、SO₂N（R′）CH₂CO₂CO₂和-CO-NR′中选取的原子团，其中R_f或是化学式C_pF_2p+1的直链或是支链，P是一个3～17的整数，而其中R是1～30碳原子的氢或酰基或者烷基的原子团，m是一个2～60的整数，而更佳m是一个5～26的整数，以及R′是1～6碳原子的氢或酰基或者烷基的原子团。

7、根据权利要求1所述的方法，其特征在于其中在工序（a）和（c）中应用的表面活性剂是由化学式表示的羧化物表面活性剂：

其中R是6～8碳原子的脂肪烷基团，R₁是C₁～C₃烷取代基，n具有2～4的数值，m具有1～100的数值和X是选自由H⁺、Na⁺、K⁺、Li⁺、NH⁺₄、二乙醇胺、三乙醇胺、Al⁺⁺、Cu⁺⁺、Mg⁺⁺和Sr⁺⁺。