[其他]新型太阳能反光材料及制备技术无效
| 申请号： | 85107406 | 申请日： | 1985-10-09 |
| 公开（公告）号： | CN85107406A | 公开（公告）日： | 1986-07-02 |
| 发明（设计）人： | 郭信章 | 申请（专利权）人： | 北京市太阳能研究所 |
| 主分类号： | C23C14/34 | 分类号： | C23C14/34;G02B5/08 |
| 代理公司： | 北京市科技专利事务所 | 代理人： | 韩建功 |
| 地址： | 北京市海淀*** | 国省代码： | 北京;11 |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 新型 太阳能 反光 材料 制备 技术 | ||
【权利要求书】：
1、一种反光镀膜，其特征在于用磁控溅射方法在不锈钢，碳钢，其它合金材料，玻璃，陶瓷及能耐温300℃左右高分子材料涂层表面上制备ZrNx，TiNx及Zr，Ti与其它元素合金的化合物的反光镀膜。
2、如权利要求1所述的反光镀膜，其特征在于在膜生成的磁控溅射过程中，加热温度为200℃～450℃的基体上施加一个-50V～-300V的偏压来提高反光率，改善表面状况，同时向真空室内分别通入可变分压的氮气及氩气，反应气体与靶上溅射出来的Zr或Ti及它们的合金元素起反应沉积到加偏压的基体上，生成一定厚度的反射膜。
3、如权利要求1所述的反光镀膜，其特征在于在膜生成的磁控溅射过程中可以不断改变反应气体的分压和溅射时间来生成不同成份多层的金属氮化物。其化学结构元素的配比，可从1变到0而得到所需要的物理性能的配比膜。
4、如权利要求1至3所述的反光镀膜，其特征在于可通过调整反应气体分压以及所施加的偏压可得到各种不同颜色的彩色反光膜，此种反光膜也可作为装饰膜。
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