[其他]高温正温度系数热敏电阻半导体陶瓷材料的制造方法无效
申请号: | 85108454 | 申请日: | 1985-11-23 |
公开(公告)号: | CN85108454B | 公开(公告)日: | 1987-08-26 |
发明(设计)人: | 刘梅冬;贾连娣;赖希伟;张绪礼;陈志雄;周方桥;莫以豪 | 申请(专利权)人: | 华中工学院 |
主分类号: | H01C7/02 | 分类号: | H01C7/02;C04B35/46 |
代理公司: | 华中工学院专利事务所 | 代理人: | 陈志凌,郑友德 |
地址: | 湖北省*** | 国省代码: | 湖北;42 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 高温 温度 系数 热敏电阻 半导体 陶瓷材料 制造 方法 | ||
本发明是一种高温正温度系数热敏半导体陶瓷材料及其制造方法。
对于(Ba1-XPbx)TiO3系列半导体陶瓷,要在1250℃以上的温度烧结,才能使其固相反应完全。由于Pb的挥发温度低(PbO的熔点是888℃),采用一般的配方与工艺就会使Pb挥发,陶瓷化学成分偏离,电性能差。为了防止Pb挥发,人们曾经在PbO保护气氛或И2气氛下烧结,或在密封的铂金坩埚中烧结,或采用过量Pb的办法。但这些都得不到电性能优良的半导体陶瓷,而且工艺方法也不利于大批量生产。
日本峰崎-仁(特许公报昭53-31555)采用掺Иb防止铅挥发的办法,在使陶瓷致密化方面虽有一定效果,但由于在工艺上未采取有效措施,因此没有获得电阻率的最大值,也没有得到完整的电阻率-温度特性曲线。
本发明以(Ba1-XPbX)TiO3为基,加入0.05~0.40mol%的Nb2O5、0.5~5mol%的SiO2、0.1~1mol%的Al2O3、0.001~0.1mol%的Mn(MO3)2和1~5mol%的TiO2,其中X=40~70mol%,采用特殊的烧结工艺,即在大气气氛中快速烧结和短暂保温:最高烧结温度为1270~1350℃,烧结时间为2~20分钟,升温速率为100~600℃/分,降温速率为10~100℃/分。这一方法除了可以更有效地防止Pb挥发,获得致密的结构以外,同时还可控制晶粒不过份长大,保持在2~5微米的最佳尺寸范围内。采用上述工艺方法制造的热敏半导体陶瓷材料,居里温度Tc≥310℃,室温电阻率小于103欧姆·厘米,电阻率比值的数量级可高达2.5~4。
在工艺制造过程中,首先将BaCO3、Pb3O4、TiO2粉末和适量的Nb2O3放入塑料罐中,加入一定量的蒸馏水、玛瑙球混合30~50小时。在1000℃~1100℃的温度下预烧1~3小时,然后加入适量的Al2O3、SiO2和Mn(NO3)2,再次混合1~48小时,烘干。加入浓度为5%的聚乙稀醇溶液过筛造粒,干压成φ15×3mm的图片,再在1270~1350℃下烧结。最后,在烧成的样品两端面上制作电极,进行电学性能测量。
图1给出(Ba1-XPbX)TiO3系列半导体陶瓷材料当X取不同值时电阻率ρ随温度T变化的实验曲线。曲线1、2、3、4、5、6分别表示X=0、0.3、0.4、0.5、0.6、0.7时的实验结果。
表1给出五个实施例的材料的物理参数。
表1
采用本发明制造的钛酸钡铅系半导体陶瓷材料,可用来制造恒温发热体和过热过流保护元件,现已制造成功自动恒温电烙铁和小型暖风机。
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