[其他]磁性传感器头无效
申请号: | 85109351 | 申请日: | 1985-11-26 |
公开(公告)号: | CN85109351A | 公开(公告)日: | 1986-08-13 |
发明(设计)人: | 小林富夫;加纳庄一;间庭修;今野清记;佐藤平吉 | 申请(专利权)人: | 索尼公司 |
主分类号: | G11B5/127 | 分类号: | G11B5/127 |
代理公司: | 中国专利代理有限公司 | 代理人: | 陶令霭 |
地址: | 日本东京都品*** | 国省代码: | 暂无信息 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 磁性 传感器 | ||
这件发明是与磁性传感器头,或者更具体说,是与复合型的磁性传感器头有关。在这种磁头中,间隙确定的磁头区域部分是由金属磁性材料薄层所构成的。
在磁性录放装置,例如磁带录象机中,现在的趋势是希望增加记录介质中的信号密度。为了增加被记录的信号密度,正越来越多的采用具有高矫顽力(Hc)的所谓的金属粉末带和所谓的金属化磁性带。金属粉末带采用铁磁材料例如铁,钴或镍或它们的合金的粉末,而所谓的金属化带是藉助于汽相沉积的方法将铁磁金属材料镀复在薄膜基片上。由于这些类型的磁性记录介质的高矫顽力,这就要求磁性传感器头特别是被用于信号录制运行的磁性记录介质的高矫顽力,这就要求磁性传感器头特别是被用于信号录制运行的磁头的磁芯材料具有高的饱和磁通密度(Bs)。对在磁性记录中主要被采用的铁氧体磁性材料而言,它的饱和磁通密度是当低的,而对金属磁性材料例如坡莫合金而言,它的耐磨性能不佳。
根据上面所提到的希望增加被录制的信号的密度的趋势,这就要求在磁性记录介质上采用窄的记录磁道宽度,为此必须要求磁性传感器头耦合间隙有着相应的窄的横向尺寸。
为了设法满足这些要求,早先就发展了一种复合型的磁性传感器头。在它里面,在非磁性的基片例如陶瓷材料的基片上,沉积上一层铁磁性金属材料,沉积层的厚度相应于记录磁道宽度。然而这种类型的磁性传感器头对高频信号分量表现出高的磁阻,原因是在磁头中整个磁信号通量回路是由低电阻率的铁磁性金属层所构成。此外,由于金属磁性层是采用物理的汽相沉积方法生成的,而这种方法的特征是具有低的沉积速率,这样对沉积层的厚度必须等于磁道宽度的要求将会导致相当长的加工时间。最终将显著地提高生产成本。
现在还知道一种复合型的磁性传感器头,在这种磁头中磁芯单元是由铁磁性氧化物例如铁氧体构成,而在形成传感器间隙的磁芯单元的交界表面处采用铁磁性金属层。然而在这种情况下磁通回路垂直于金属磁性层的宽面,这样由于涡流损耗的原因,可能会使播放输出减弱。此外,在每一个铁氧体磁芯单元和相关连的金属磁性层之间的交界处所形成的伪间隙会损坏所希望的播放频率响应的均匀性
在此特别引入下列待批准的专利申请供参考:
(1)Kobayashi等人,专利申请磁性传感器头”,美国系列号686540,存档日期1984年13月26日。(2)Kubota等人,专利申请“磁性传感器头”,美国系列号713637,存档日期1985年3月19日
上面提到的美国专利申请系列号686540透露了一种复合类型的磁头,这种磁头适用于在具有高矫顽力的磁带例如前面所提到的所谓的金属粉末带和金属化磁带上作高密度记录,在附图20中给出了这种类型磁头的一个例子。在这种磁头中有一对由铁氧体材料构成的磁芯单元101和102,它们有着倾斜配置的表面103和104,在这两个表面上采用物理汽相沉积过程沉积上了一层金属磁性材料例如铁硅铝磁合金Sendwst 105和106。层105和106被排成一直线以便它他们的边缘能形成一与大于沉积层厚度的记录磁道宽度相当的传感器间隙107。在间隙区域107的每一边处,铁氧体磁芯部件101和102的前沿部份被非磁性填充材料108,109,110和111所间隔。非磁性材料108,109和沉积层105和106的与记录磁带贴合的表面保持在同一平面上相互支持而延伸,这就保护了沉积层不被磨损。根据所希望的记录磁道宽度,非磁性材料108-111形成了一种传感器磁头的磁结构形态。作为例子,图20中的108和109的材料可以是具有相当低熔点的玻璃材料,而110和111的材料可以是具有高熔点的玻璃材料。图20所示的磁头与过去的磁头比较起来,在运行的可靠性、磁特性和耐磨性等方面表现了优良的特性。
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