[发明专利]高强度发射装置

权利要求书

1、一种产生高强度发射的装置，包括一个细长圆筒形电弧室、同轴置于所述电弧室内的第一及第二电极构件、能把液体注入到所述电弧室内且在其内周缘上形成圆筒形液壁并可通过冷却所述电弧放电的周缘来集聚弧光放电的液体涡流发生构件、以及把具有涡流运动的气体通过所述圆筒形液壁的内部注入到所述电弧室内的构件，其特征在于：本装置还包括一个位于所述液体涡流发生构件内能够减少注入所述电弧室中的液体宏观紊流的环形涡流限制构件。

2、如权利要求1所述的高强度发射装置，其进一步特征在于：所述液体涡流发生构件具有一个液体注射构件和一个围绕所述环形涡流限制构件外缘的空腔构件。

3、如权利要求2所述的高强度发射装置，其进一步特征在于：所述空腔构件与外环形套筒之间的环形距离在水流注入点处呈最大并沿着水流运行方向均匀地减小。

4、如权利要求2所述的高强度发射装置，其进一步特征在于：所述环形涡流限制构件具有足以保证减少通过环形涡流限制构件后并自空腔构件排出的液体的宏观紊流的宽度和有效距离。

5、如权利要求4所述的高强度发射装置，其进一步特征在于：还包括一个从所述液体涡流发生构件沿所述第一电极伸出的喷嘴构件，该喷嘴构件的外圆周基本上与所述圆筒形液壁的平衡表面接近。

6、一种产生高强度发射的装置，包括一个细长圆筒形电弧室、同轴置于所述电弧室两端的第一及第二电极构件、从所述第一到第二电极在所述电弧室的内周缘上产生圆筒形液壁的液体涡流发生构件、将具有涡流运动的气体注入到所述圆筒形液壁内的气体注入构件，其特征在于：还包括一个从所述液体涡流发生构件处呈轴向伸展的喷嘴构件，该喷嘴构件的内部直径和所述第一电极的外部直径确定了接受所述气体注入构件注入气体的环形开口，喷嘴构件的外圆周基本上与所述圆筒形液壁的平衡表面接近并与液体涡流发生构件相连通，喷嘴构件对液壁表面加以限制并形成液体的轴向流。

7、如权利要求6所述的高强度发射装置，其进一步特征在于：所述气体被注入位于所述喷嘴构件的内径和所述第一电极的外圆周之间的所述电弧室内，而所述液体则被注入位于所述喷嘴构件外面的所述电弧室内。

8、一种产生高强度发射的装置，包括一个细长圆筒形电弧室、同轴置于所述电弧室两端的第一及第二电极构件、邻近所述第一电极并能在所述电弧室的内周缘上形成圆筒形液壁的液体涡流发生构件、将气体注入到位于所述第一及第二电极之间的电弧室内并使之作涡旋运动的气体注射构件，其特征在于：还包括一个邻近所述第二电极的液体和气体接收构件，在所述第二电极上至少装有一个翅片，该翅片朝着离开上述电弧室的液体和气体流的方向伸展、沿液体和气体流动方向限定出一个相对无阻的通道以及沿所述液体和气体流相反方向运动时的阻档性通道。

9、如权利要求8所述的高强度发射装置，其进一步特征在于：所述液体和气体接收构件包括一个自接收区至排放区均匀扩大的扩大喷嘴。

10、如权利要求9所述的高强度发射装置，其进一步特征在于：所述第二电极在靠近其顶部处有一组较小的翅片，在靠近其中部处另有一组较大的翅片。

11、如权利要求10所述的高强度发射装置，其进一步特征在于：还包括一个能将第二电极的冷却液体排放至排放室并装在所述第二电极上的出口喷嘴。