[其他]带有保护涂层的碳或石墨体及其生产方法

权利要求书

1、具有粗糙、开孔表面和在其上沉积有硅层的碳或石墨体，其特征在于所说的硅层十分致密，残余孔隙率为2%，所说的表面得以完全覆盖，而且由于内部的压缩回弹性应变和抗氧化物性，使所述的硅层具有硅材料本身所不具备的延展性，因而在因温度变化引起强烈应变条件下阻止形成裂缝。

2、一种用等离子喷涂法在碳或石墨体表面涂敷含硅保护层的方法，其特征在于：使用粒度小于0.1mm的硅粉，在作为等离子气体的惰性气体-氢混合物中，于真空度不高于250毫巴的密闭真空室中，借助于真空等离子喷涂技术，在所说表面上产生0.1至0.4mm厚的保护层，所说保护层的密度至少相当于其理论密度的96%。

3、按照权利要求2所述的方法，其特征在于在一个涂敷室中经真空去气后立即直接涂敷石墨表面，而无需任何机械预处理。

4、按照权利要求2所述的方法，其特征在于使用粒度为0.03至0.06mm的硅粉。

5、按照权利要求2至4中任何一项所述的方法，其特征在于使用氩-氢混合物作为等离子气体。

6、按照权利要求2至5中任何一项所述的方法，其特征在于使用60-70%体积的氩和40-30%体积氢所组成的混合物作为等离子气体。

7、按照权利要求2至6中任何一项所述的方法，其特征在于使用的气氛压力为50至150毫巴。

8、按照权利要求2至7中任何一项所述的方法，其特征在于制成厚度为0.25至0.35mm的保护层。

9、按照权利要求2至8中任何一项所述的方法，其特征在于制成在其厚度上组成有变化的保护层。

10、按照权利要求2至9中任何一项所述的方法，其特征在于得物体表面打毛后进行涂敷。

11、应用权利要求2所述的方法涂敷电弧炉用石墨电极组件。