[发明专利]N，N-二代羧酸酰胺类的制造方法

说明书

一种制造式（Ⅰ）所示的N，N-二代羧酸酰胺类的新方法，所述方法包括在式（Ⅳ）所示的硅烷化合物的存在下使式（Ⅱ）所示的席夫碱与式（Ⅲ）所示的羧酸衍生物接触，接触过程中有或没有惰性的有机溶剂存在。

式（Ⅰ）中的R，R¹，R²和R³是按权利要求1的规定。

式（Ⅱ）中的R，R¹和R²是按上述的规定。

式（Ⅲ）中的R³是按上述的规定，M表示卤（素）原子或部分。

式（Ⅳ）中的X，Y和Z表示氢原子或卤（素）原子，它们彼此独立。

本发明涉及一种制造式（Ⅰ）所示的N，N-二代羧酸酰胺的新方法，式（Ⅰ）中的R¹，R²和R³是按如下的规定。

制造可用于例如医药品、农用化学品、以及它们的起始原料或中间体的制造上的式（Ⅰ）所示的N，N-二代羧酸酰胺的方法已为众所周知〔参阅日本特许公开No.4181/1985，于1985年1月10公布;美国专利号2863752，4372972，4282028，4460603，4521243，4494978，4155744，4456471，3586496和3367847;R.B.瓦格纳（Wagner），H.D.佐克（Zook）“合成有机化学”P.565（1953）约翰·威利&桑斯公司（Tohn    wiley&sons，Inc.）;A.范可夫（Venkov）“M.尼科洛瓦（Nikolova），N.莫洛夫（Mollov）“化学工业”（伦敦），P.808（1982）〕。

上述文献中最通常的工业制法是包括了还原式（Ⅱ）所示的席夫

碱式（Ⅱ）中的R，R¹和R²是按如下的规定），以及酰化或芳酰化所生成的还原产物，以形成式（Ⅰ）所示的化合物。例如，上面所引证的日本特许公开4181/1985公布了一种制造N，N-二代羧酸酰胺的方法，该法按下列流程图经过还原起始席夫碱阶段和氯乙酰化所生成的还原产物阶段。

在上面的流程图中，A表示氢原子，卤（素）原子，烷基，烷氧基或者硫代烷基;R₁、R₂和R₃表示氢原子，卤（素）原子，烷基，烷氧基或者硫代烷基，它们彼此独立。

现有的制造N，N-二代羧酸酰胺的方法（包括上面例举的方法）有若干缺点，如它们的制造步骤复杂。用作起始原料或者中间体的化合物难于获得或者不稳定。另外，目的化合物的得率低。这些缺点使现有的制造方法很难用简单的制造步骤，低成本高得率地获得目的化合物。

本发明者在改进主要包括上面两个步骤的N，N-二代羧酸酰胺的传统工业制法上已作了多方面研究，从而找到了通过在硅烷化合物存在下使席夫碱和羧酸衍生物接触，便可用一步法以高的很率很容易制取所要求的N，N-二代羧酸酰胺。本发明者的研究指出：这种新的反应方式可应用到很宽范围的席夫碱和很宽范围的酸酸衍生物进行反应。

根据本发明提供了一种制造式（Ⅰ）所示的N，N-二代羧酸酰胺的新方法，式（Ⅰ）中的R表示氢原子、烷基、链烯基、烷氧基、

链烯氧基、取代羰基或者三卤代甲基;R¹、R²和R³彼此独立，它们表示取代或未取代烷基，取代或未取代链烯基，取代或未取代炔基，取代或未取代芳基，取代或未取代杂芳基，取代或未取代环烷基，取代或未取代环链烯基，或者取代或未取代杂环烷基;R¹还可表示氢原子;R和R¹以及与它们键合的碳原子一起可形成取代或未取代的环状基。

本发明所述的一种制造式（Ⅰ）所示的N，N-二代羧酸酰胺的新方法，包括在式（Ⅳ）所示的硅烷化合物的存在下使式（Ⅱ）所示的席夫碱与式（Ⅲ）所示的羧酸衍生物接触，接触过程中有或没有惰性的有机溶剂存在。

式（Ⅱ）中的R，R¹和R²是按上述的规定。

式（Ⅲ）中的R³是按上述的规定，M表示卤（素）原子或部分。

式（Ⅸ）中的X，Y和Z表示氢原子或卤（素）原子，它们彼此独立。

本发明所述的新制法可用下列反应式表示：