[其他]生产釉面陶瓷砖的方法和设备以及由此得到的釉面陶瓷砖

权利要求书

1、一种改进的生产釉而陶瓷砖的方法，其特征在于将未加工的陶瓷体经几个相处理，第一相热处理的结果基本上完成烧成反应；将干燥松散的釉料置于陶瓷体上的分布相实质上是处于第一相热处理的最后温度，陶瓷体在第二相热处理的开始部分置于能使釉料玻璃化的足够温度下，由于釉料中的至少一个组分的熔融而玻璃化；然后进行第二相热处理。

2、根据权利要求1所述的方法，其特征在于陶瓷体在第一相热处理的最后阶段以炽热的塑性状态进入釉料分布相。

3、根据权利要求1所述的方法，其特征在于釉料分布相是发生在温度低于釉料玻璃化温度的环境中。

4、根据权利要求1所述的方法，其特征在于釉料分布在陶瓷体上的方法是采用自由下落的方法，当陶瓷体按水平轨道移至釉料分布装置的下端时将釉料分布于其上。

5、根据权利要求1所述的方法，其特征在于陶瓷体移至釉料分配相时，其所处的温度大于所说的釉料玻璃化温度。

6、装备烧制炉、窑炉或烧制室以将陶瓷体烧成或上釉的设备，包括烧制炉的第一部分和二部分;第一部分以加热陶瓷体至直烧成反应基本完成为特征，第二部分有温度控制装置，以将陶瓷体置于控制的并逐渐降低的温度下，使陶瓷渐渐冷却;还包括将陶瓷体沿炉的第一部分移至第二部分的装置，此设备的特征在于，在炉的两部分之间加料于上釉台，此上釉台有输送装置将陶瓷砖由炉的第一部分的出口运送至第二部分的入口，还有将干燥松散的釉料分布在输送表的陶瓷体上的装置。

7、根据权利要求6所述的设备，其特征在于所说的釉料分布装置是置于某种环境之中的，这种环境有控制温度的装置将环境的温度控制在一定值之下，此值是釉料玻璃化和起物理和化学变化的温度。

8、根据权利要求6所述的设备，其特征在于将釉料分布在陶瓷体上的方法包括一釉料分配装置，此装置的操作范围包括整个输送设备的宽度。

9、根据权利要求6所述的设备，其特征在于烧成炉是单层辊轴型。

10、根据权利要求6所述的设备，其特征在于输送装置形成不连续的支持面，使陶瓷砖一个个分离开来并支持在数点上，分配装置将釉料沉积在输送装置整个宽度上，落入陶瓷砖间空隙处的釉料由收集器收集之。

11、由本发明的一个或多个所述的权利要求的方法制得的釉面陶瓷砖。