[其他]胶印印版的亲水支持体材料、其制备方法及应用无效
申请号: | 86101022 | 申请日: | 1986-02-03 |
公开(公告)号: | CN86101022A | 公开(公告)日: | 1986-08-06 |
发明(设计)人: | 迈克尔·布伦克;里纳特·伦斯特 | 申请(专利权)人: | 赫彻斯特股份公司 |
主分类号: | G03F7/02 | 分类号: | G03F7/02;G03F7/16;B41N1/08 |
代理公司: | 中国国际贸易促进委员会专利代理部 | 代理人: | 王杰,张元忠 |
地址: | 联邦德国6*** | 国省代码: | 暂无信息 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 胶印 支持 材料 制备 方法 应用 | ||
1、胶印印刷版的支持体材料,有板材、薄板材或卷筒状材料,由可预处理的铝或铝合金组成,其特征是至少在其一面有磷酸化合物的亲水涂层,其亲水涂层包含:
a)丙烯酰胺异丁烯磷酸聚合物或
b)丙烯酰胺和丙烯酰胺异丁烯磷酸的共聚物或
c)a)或b)带有一种至少二价金属阳离子的盐。
2、根据权利要求1所叙述的支持体材料,其中丙烯酰胺/丙烯酰胺异丁烯磷酸单体,在b)或c)共聚物中的比例是1∶99到99∶1。
3、根据权利要求1所叙述的支持体材料,其中单体的比例是3∶97到90∶10。
4、根据权利要求1到3中叙述的任一种支持体材料,其中涂层c)中的金属阳离子是V5+、Bi3+、Al3+、Fe3+、Zr4+、Sn4+、Ca2+、Ba2+、Sr2+、Ti3+、Co2+、Fe2+、Mn2+、Ni2+、Cu2+、Zn2+或Mg2+离子。
5、根据权利要求1到4中叙述的任何一种支持体材料,其中涂层包含有产品a)和/或b)和/或c)的混合物。
6、根据权利要求1到5中叙述的任何一种支持体材料,其中铝被酸洗。
7、根据权利要求1到6中叙述的任何一种支持体材料,其中铝被粗化。
8、根据权利要求1到7中叙述的任何一种支持体材料,其中铝被阳极氧化。
9、根据权利要求6到8中叙述的任何一种支持体材料,其中铝的峰-谷高度R2为3到10微米。
10、根据权利要求8或9所叙述的支持体材料,其中铝的氧化层厚度为0.3到3.0微米。
11、根据权利要求1到10中叙述的任何一种胶印印版支持体材料的制备方法,用a)到c)的溶介产物或它们的混合物涂敷,铝或铝合金;浓度为0.02到5.0%(以重量计)的水溶液。支持体材料可以酸化,用浸泡或电化学处理,並将涂层干燥。
12、根据权利要求1到10中任何一种所叙述的支持体材料的制备方法,它包含了涂层c)的制备方法。铝或铝合金的处理方法是先用0.01到10.0%的a)和/或b)的聚合物溶液,然后用0.1%到饱和的,最好是有阳离子的盐水溶液V5+、Bi3+、Al3+、Fe3+、Zr4+、Sn4+、Ca2+、Ba2+、Sr2+、Ti2+、Co2+、Fe2+、Mn2+、Ni2+、Cu2+、Zn2+、或Mg2+离子来处理,并干燥从反应产物中制得的涂层。
13、根据权利要求11或12所叙述的支持体材料制备方法,它包含有在用亲水化合物涂敷前经酸洗和/或阳极氧化铝或铝合金。
14、根据权利要求1到13中所叙述的任何一种涂有光敏物质的支持体材料的使用。
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