[其他]连续减少和除去炭结构中所含矿物的化学处理方法

权利要求书

1、一种炭的处理过程，其特征是，将炭中含有的灰份经过氟基酸液(含有氟硅酸水溶液和氢氟酸)处理后除去，氟基酸液使其中存在的氧化金属变成氟化金属或/同氟硅金属化合物，并将处理的炭自此两种生成的氟化金属或/同氟硅金属化合物中分离出。

2、按权利要求1的处理过程，其特征是，该酸液是在饱和氟硅酸水溶液中加入无水氢氟酸气体配制成。

3、按权利要求1或2的处理过程，其特征是，炭与酸液的处理是在压力14～19PSIA情况下进行。

4、按权利要求1至3的处理过程，其特征是，所述炭在处理之前都已将颗粒减小至大约小于2mm的尺寸。

5、按权利要求1至4的处理过程，其特征是，所述炭进一步在至少一个管状反应器中与酸液进行处理以确保被处理的炭同酸液之间有连续的接触。

6、按权利要求5的处理过程，其特征是，至少一个管状反应器该有超音波震动装置以便被处理的炭可以进一步作用。

7、按权利要求5或6的处理过程，其特征是，炭是在温度65℃～70℃之间，压力介于50～70PSIA情况下作进一步处理。

8、按权利要求1至7的处理过程，其特征是，被处理的炭被视为固体与液体分离阶段的过滤媒介，将悬游在滤液中的氟化金属或/同氟硅金属化合物依附存留在炭的表面。

9、按权利要求1至8的处理过程，其特征是，被处理的炭或进一步待处理的炭都经氟硅酸液清洗以便将依附在炭表面的氟化金属转变成氟硅金属化合物，然后，移除氟硅金属化合物。

10、按权利要求4的处理过程，其特征是，所述炭（处理过或待进一步处理）被加热至温度250～400℃以便炭中的氟硅酸（H₂SiF₆）可以形成SiF₄和HF逸出。

11、按权利要求10的的处理过程，其特征是，产生的SiF₄和HF气体用一般的水洗方式清洗以回收氟化氢（HF）并使SiF₄同H₂O作用产生SiO₂和HF。

12、按权利要求1至10的处理过程，其特征是，产生的氟化硅（SiF₄）气体都被加于水中以便生成H₂SiF₆，H₂O和SiO₂。

13、按权利要求12的处理过程，其特征是，处理产生的二氧化硅（SiO₂）被沉淀自水中结晶析出。

14、按权利要求12的处理过程，其特征是，清洗塔中产生的H₂SiF₆和H₂O被加热以便自H₂SiF₆中放出SiF₄这使得与较多的HF作用的SiO₂不足，因而可以产生二个分子的HF。

15、按权利要求12的处理过程，其特征是，H₂SiF₆浓度会增加。

16、按权利要求11的处理过程，其特征是，产生的HF被循环送回以制造酸液。

17、按权利要求11的处理过程，其特征是，产生的SiF₄与更多的水作用以便产生H₂SiF₆。

18、按权利要求12或13的处理过程，其特征是，产生的H₂SiF₆被循环送回以制造酸液。