[其他]用于高压钠灯的透明氧化铝陶瓷制品及工艺无效
| 申请号： | 86101452 | 申请日： | 1986-03-13 |
| 公开（公告）号： | CN86101452A | 公开（公告）日： | 1987-09-23 |
| 发明（设计）人： | 李发;胡美华;谭少华;包廷英;赵华源;高陇桥;杨钰平 | 申请（专利权）人： | 电子工业部第十二研究所 |
| 主分类号： | C04B35/10 | 分类号： | C04B35/10 |
| 代理公司： | 电子工业部专利服务中心 | 代理人： | 李勤媛 |
| 地址： | 北京市74*** | 国省代码： | 北京;11 |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 用于 高压 钠灯 透明 氧化铝 陶瓷制品 工艺 | ||
【权利要求书】：
1、一种用于高压钠灯的透明氧化铝陶瓷制品，其特征在于配料时在高纯Al2O3中加入Y、La、Mg、Zr氧化物四组元复合系统的添加剂，可在较低的烧结温度下，快速烧结出微晶的、具有高透光性能的陶瓷制品。
2、根据权利要求1所述的透明氧化铝陶瓷制品，其特征在于制品中四组元复合系统添加剂的最佳配比范围为：
Y2O30.05～0.3% MgO 0.01～0.3%
La2O30.05～0.5% ZrO 0.01～0.3%
3、根据权利要求1所述的透明氧化铝陶瓷制品，其特征在于制品微观结构晶粒细微，平均晶粒约为11.0μ。晶粒均匀一致，晶粒范围（8-20）μ，使陶瓷同时具有致密、透光、均匀等性能。
4、一种用于高压钠灯的透明氧化铝陶瓷的制造工艺，其特征在于采用快速烧结方法，烧结时间只用3.5小时，提高效率4倍左右。
5、根据权利要求4所述的透明氧化铝陶瓷制造工艺，其特征在于采用的平均烧成温度低于一般烧结温度规范50℃～60℃。
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