[其他]新吡唑衍生物的制备方法及应用无效

专利信息
申请号: 86103259 申请日: 1986-05-14
公开(公告)号: CN86103259A 公开(公告)日: 1987-01-28
发明(设计)人: 大山广志;大野利治;下园卓郎;寺川辉彦 申请(专利权)人: 北兴化学工业株式会社
主分类号: C07D231/12 分类号: C07D231/12;C07D231/16;C07D231/38;A01N43/56
代理公司: 中国国际贸易促进委员会专利代理部 代理人: 吴大建,全菁
地址: 日本*** 国省代码: 暂无信息
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摘要:
搜索关键词: 吡唑 衍生物 制备 方法 应用
【权利要求书】:

1、含有作为有效成分的通

式(I)化合物与有效成分的固体或液体载体的除草组合物,式中R1a、R1b和R1c各为氢原子、囟原子、硝基、氨基、(低级)烷基、囟代(低级)烷基、(低级)烯基、(低级)炔基、(低级)烷基羰基胺基、(低级)烷氧羰基胺基、单-(低级)烷基胺基羰基胺基或双-(低级)烷基胺基羰基胺基;

R2为氢原子,(低级)烷基、(低级)烯基、(低级)炔基、(低级)烷氧基(低级)烷基、(低级)烷硫基(低级)烷基、(低级)烷基羰基(低级)烷基、(低级)烷氧羰基(低级)烷基、(低级)烷硫羰基(低级)烷基、氰基(低级)烷基、(低级)烷基磺酰基、苯磺酰基、囟代苯磺酰基或(低级)烷基取代的苯磺酰基;

X和Y可以是相同,或不同的囟原子。

2、抑制有害杂草生长的方法,该方法包括在杂草上或杂草滋生处施用有效除草剂量的权利要求1所规定的吡唑衍生物。

3、通式(Ⅰ-1)吡唑衍生物的制备方法,

式中R3、R4和R5各为氢原子、(低级)烷基、囟代(低级)烷基、(低级)烯基或(低级)炔基,

R2为(低级)烷基、(低级)烯基、(低级)炔基、(低级)烷氧基(低级)烷基、(低级)烷硫基(低级)烷基、(低级)烷基羰基(低级)烷基、(低级)烷氧羰基(低级)烷基、(低级)烷硫羰基(低级)烷基、氰基(低级)烷基,(低级)烷基磺酰基、苯磺酰基、囟代苯磺酰基或(低级)烷基取代的苯磺酰基,X和Y可以是相同,或不同的囟原子,该制法包括通式(Ⅱ)的肼化合物,式中R2、X和Y均如上规定,与通式(Ⅲ′)的双羰基化合物,式中R3、R4和R5正如上面规定,反应生

成通式(Ⅰ-1)的化合物,该反应在一种即能溶解通式(Ⅱ)、(Ⅲ′)化合物,又不会与之反应的溶剂中进行,反应温度从室温至所用溶剂的回流温度。

4、制备通式(Ⅰ-2)吡唑衍生物的方法,

式中R6,R7和R8各为氢原子、囟原子、硝基、氨基、(低级)烷基、囟代(低级)烷基、(低级)烯基或(低级)炔基,

X和Y可以是相同,或不同的囟原子,该制法包括通式(Ⅰ-3)吡唑化合物的水解反应,

式中R6、R7和R8均如上述规定,R2为(低级)烷基磺酰基、苯磺酰基、囟代苯磺酰基或(低级)烷基取代的苯磺酰基,X和Y也如上规定,该反应在碱性化合物存在下,在水介质中进行,反应温度从室温至水介质的回流温度。

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