[其他]带源的氯化物、氢化物系统的多次连续生长装置及其方法

权利要求书

1、带源的氯化物、氢化物系统的多次连续生长装置，为一由细、中、粗三种规格组成的带有磨口的反应管，其上有一个(对氯化物系统)或两个(对氢化物系统)进气管，出气管、逆流气体进入的管，内有源、衬底托、纳污管。其特征为：带有凹槽(32)、下方为园形、上方平面上带有双棱(31)、靠两个密合与反应管结合的下方纳污管，由四条腿(41)、框隔(42)、抽板(44)及其尾部朝上面上的铁芯(45)、直角棱边(46)、“小爪”(47)组成的放在反应管后部的备片架，由直角棱边(21)、托板(22)及封在它朝下面上的铁芯(23)、小勾(24)、“小爪”(25)、拉杆(26)铁芯(27)、(28)组成的可在纳污管上移动的水平衬底托(20)；或者由直角棱边(21)、托板(22C)及封在它朝下面上的铁芯(23)、前勾(24E)、后勾(24F)、“小爪”(25)、斜靠板(22D)、拉杆(26)、铁芯(27)、(28)组成的可在纳污管上移动的立式生长衬底托(20B)。反应管上带有凹坑(14)、标尺(48)(29)，其外带有线圈(13)(17)。

2、使用如权利要求1所述装置的方法，每片衬底都先气相腐蚀再生长，其特征为在反应稳定进行的条件下，通过磁拉的方法将衬底先拉入微腐蚀区，以利避开衬底升温过程中的瞬态效应，再拉入生长区生长，并通过磁拉实现在反应管内取片和装衬底的多次连续生长。