[其他]新的喹唑啉衍生物及其制备方法

权利要求书

1、式为：

的化合物及其药用盐类，

式中R¹和R²各是氢、卤素、低级烷氧基或卤代(低级)烷基，

R³是芳基或芳代(低级)烷基，二者都可带有一个或多个适宜的取代基；或杂环(低级)烷基，

R⁴是羧基或被保护的羧基，

A是氧或硫原子，

Y是羰基、硫代羰基或磺酰基

Z是低级亚烃基。

2、权利要求1的化合物，

式中R³是含有一个或多个卤原子的苯基;苯基（低级）烷基或萘基（低级）烷基，二者都可带有一个或多个取代基，这些取代基可从卤素、低级烷氧基、卤代（低级）烷基和低级烷基中选择;吡啶基（低级）烷基;或噻吩基（低级）烷基，

R⁴是羧基或酯化了的羧基。

3、权利要求2的化合物，

式中R¹和R²各是氢、卤素、低级烷氧基或一（或二或三）卤代低级烷基，

R³是一（或二或三）卤代苯基，苯基（低级）烷基，萘基（低级）烷基，由一个或两个取代基取代的苯基（低级）烷基，取代基可从卤素、低级烷氧基、卤代（低级）烷基和低级烷基 吡啶基（低级）烷基或噻吩基（低级）烷基中选择。

4、权利要求3的化合物，

式中R¹和R²各是氢、卤素、低级烷氧基或三卤代（低级）烷基，

R³是一（或二或三）卤代苯基，苯基（低级）烷基、萘基（低级烷基，由一个或二个取代基取代的苯基（低级）烷基，取代基可从卤素，C₁-C₄烷氧基，一（或二或三）卤代（C₁-C₄）烷基和C₁-C₄烷基，吡啶基（低级）烷基或噻吩基（低级）烷基中选择，

R⁴是羧基或低级烷氧羰基。

5、权利要求4的化合物，

式中R¹和R²各是氢、卤素、C₁-C₄的烷氧基或三卤代（C₁-C₄烷基，

R³是苯基（C₁-C₄）烷基，萘基（C₁-C₄）烷基，由一个或二个取代基取代的苯基（C₁-C₄）烷基，取代基可由卤素、C₁-C₄烷氧基，三卤代（C₁-C₄）烷基和C₁-C₄烷基，吡啶基（C₁-C₄）烷基或噻吩基（C₁-C₄）烷基中选择，

R⁴是羧基或C₁-C₄烷氧羰基。

6、权利要求5的化合物，

式中A是氧，

Y是羰基。

7、权利要求6的化合物，

式中R¹是氢，

R²是卤素，

R³是二卤代苯基（C₁-C₄）烷基，

R⁴是羧基。

8、权利要求7的化合物，其为2-〔3-（4-溴-2-氟苄基）-7-氯-1，2，3，4-四氢-2，4-二氧喹唑啉-1-基〕乙酸。