[其他]非晶碳-非晶晒复印感光体(复印鼓)

说明书

本发明是关于复印机中使用的一种新型复印感光体（复印鼓）及其制造方法。

当前复印技术中使用的复印感光体（复印鼓），按制造复印感光体（复印鼓）所用的光导性绝缘材料分，有非晶态硒（包括硒合金）鼓、氧化锌鼓、硫化镉鼓、有机光导材料鼓、非晶态硅鼓等。其中以a-Se或a-Se合金（非晶态硒）鼓使用量最大。按复印鼓结构分有单层结构：如a-Se/Al结构的非晶态硒鼓;多层结构鼓：如a-Se-Te合金/a-Se/Al鼓，Si₃N₄/a-Si/Al鼓，SiC/a-Si/Al鼓，a-Si/SiC或Si₃N₄/Al鼓等。用a-Se及a-Se合金制成的复印感光体（复印鼓）具有良好的复印性能，制造工艺简单、成本低等优点。但也有一些重要缺点，一是硒或硒合金硬度很低，极易擦伤和磨损。二是熔点、玻璃转变温度、结晶化温度低，在复印过程中不断受到热、光、电等物理因素的作用，使a-Se或a-Se合金很容易改性，使复印性能劣化。由于这两方面的原因，a-Se或a-Se合金复印感光体（复印鼓）的使用寿命较短。一般厂家选取复印5万张作为寿命标准，大约一年到一年半就需更换复印鼓。给用户经济上增加了负担和工作上带来了不便。

本发明的目的是为了提供既具有优异的机械性能和抗磨损能力、物理、化学稳定性高，又可提高使用寿命、制造工艺简单、经济合算的一种新型的非晶碳-非晶硒复印感光体（结构为a-c：H/a-Se或a-Se合金/Al）。

本发明采用了非晶态材料a-C：H（含氢非晶态碳）。新复印感光体（复印鼓）是在予先加工好的铝（Al）鼓基上，先沉积a-Se膜和a-Se合金膜、然后再沉积一层较薄的a-C：H膜而制成的。a-Se合金膜和a-Se膜的沉积方法是通常的真空蒸发镀膜。a-C：H膜是采用直流或高频辉光放电法制备的。把乙炔（C₂H₂）或戍烷（C₅H₁₂）或其它气态碳氢化合物用氩（Ar）、氢（H₂）或氮（N₂）稀释后通入辉光放电反应室，混合气体的流量为0.1-1.0升/分，铝鼓基衬底温度0-80℃。加上直流或交流高压产生辉光放电，使气态碳氢化合物分解，分解出来的含氢碳即沉积在a-Se或a-Se合金膜层上。沉积a-C：H膜时生长速率控制在0.10-10/秒，生长速率不宜快，太快成膜的质量不好。沉积的a-C：H膜厚度在3微米以下为宜。这样，a-C：H/a-Se合金和a-Se/Al复印感光体（复印鼓）即可制成。新型复印感光体（复印鼓）也可以在制备硒鼓的镀膜机内一次完成，镀膜机加以改装，在蒸镀完a-Se和a-Se合金膜后，停止硒源的加热电流，然后通入N₂赶出残余的硒蒸汽，再通入反应混合气，加上高压进行辉光放电分解乙炔或戍烷沉积a-C：H膜，制备过程中铝鼓膜基应不停地转动，使大面积均匀成膜即可制得。