[其他]槽边废水循环直接净化自控双联槽无效

专利信息
申请号: 86203085 申请日: 1986-07-04
公开(公告)号: CN86203085U 公开(公告)日: 1987-04-01
发明(设计)人: 孙大通;陈世其;罗耀宗 申请(专利权)人: 罗耀宗;孙大通;陈世其
主分类号: C02F1/52 分类号: C02F1/52
代理公司: 中国科学院上海专利事务所 代理人: 薛嘉俊,魏冀秋
地址: 上海市徐汇*** 国省代码: 上海;31
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摘要:
搜索关键词: 废水 循环 直接 净化 自控 双联槽
【说明书】:

实用新型是电镀工艺流程中对镀毕零件进行即时清洗工序,並能循环处理清洗废水的装置,属环保设备中的废水处理设备。

由国内外报导看,目前对电镀废水的处理大都采用化学方法。其基本原理和方法虽然相似,但在设备结构上都是各有不同,竞相作精心改革。当前对单一离子电镀废水处理(称一级处理),常用的有离子交换法、反渗透法和电解法等,这些方法的缺点是,前二者的设备复杂,投资大,操作复杂,占地也较大;后一种方法虽对高浓度废水有回收价值,但废水排放难以达标,还必须配备其它处理措施。因此,有不少电镀作业单位对单一离子电镀废水不作处理,而是将多种废水直接排入化学反应池,然后进行处理。当前对混合离子电镀废水的处理,一般是让其排入终端化学反应池,在此池中进行化学处理(称二级处理),即使其沉淀,把水放掉。这样的处理方法其清洗水中各种阴离子较多难以回用,而且各种混合重金属离子固体也无法回用,特别是若电镀工艺中无前级单金属离子处理措施,则给二级处理增加了负担,带来处理场地庞大,投资高,操作管理复杂,污泥造成二次污染等一系列问题,加上因无一级处理措施,就要用较多的水冲洗另件,所以严重浪费水源和污染环境。

本实用新型的目的,是为了克服以上现有化学处理方法中占地大,操作管理复杂,水源浪费,因而水处理效果不理想等缺点而提出的。把本实用新型直接设置在电镀槽边,一方面作清洗电镀零件之用,另一方面用来循环处理废水。

本实用新型在电镀工艺流程中的安排属处理(1)、处理(2)工序,构成槽边废水循环直接净化的双联槽。其系统结构如附图1所示。其中:〔1〕为循环清洗Ⅰ槽,〔2〕为斜板沉淀过滤槽,〔3〕为循环清洗Ⅱ槽,〔4〕为排泥阀,〔5〕为循环水泵,〔6〕为流量调节阀,〔7〕为流量计,〔8〕为水力旋转电极刷,〔9〕为监测复合电极,〔10〕为电磁阀,〔11〕为溶液贮箱,〔12〕为自控系统控制箱,〔13〕污泥脱水槽,〔14〕为引水罐。由附图1知,引水罐〔14〕上部的进口管道与循环清洗Ⅱ槽〔3〕的底部连接,在水泵的作用下,将Ⅱ槽的水抽至引水罐,此时Ⅱ槽水位降低,由Ⅰ槽的水补充Ⅱ槽。引水罐底部的出水口与循环水泵〔5〕的进水口连接,水泵的出水口接流量计〔7〕,流量计的另一头接流量调节阈〔6〕,该阀的另一头通向装在循环清洗Ⅰ槽〔1〕中的水力旋转电极刷〔8〕。在水泵〔5〕的作用下循环地把Ⅱ槽〔3〕中的水引入Ⅰ槽〔1〕,这股水流一方面推动装在旋转电极刷〔8〕中的叶轮转动,从而带动电极刷〔8〕转动,另一方面从旋转电极刷的出水口喷出,带动循环清洗Ⅰ槽内的溶液旋转起来,同时又补充了从Ⅰ槽流至Ⅱ槽的水位。在Ⅰ槽〔1〕底部用PVC塑料管与斜板沉淀过滤槽〔2〕的底连接,则Ⅰ槽〔1〕中经化学处理的含有沉淀物的混合液流在液位差的作用下流向沉淀过滤槽〔2〕,在此槽中液流由下向上经过斜板区和过滤层,一方面沉淀物在特殊结构的斜板上沉淀下来,並沿装在斜板上的导流板滑向槽的两侧,流入装在此槽下部的污泥管,继而在排泥阀〔4〕的作用下把含有较多水份的污泥排入污泥脱水槽;另一方面经过过滤层网的较清洁的水流入循环清洗Ⅱ槽〔3〕。由此,水流进行循环。本实用新型配有溶液贮箱〔11〕,内装NaOH、凝聚剂(PAM)和表面活性剂的混合液。该箱的管道出口经电磁阀〔10〕与水力旋转电极刷〔8〕的出口相通。与水力旋转电极刷相接触的监测复合电极把测得的PH值信号送入装在自控系统控制箱〔12〕中的酸度计上,並把PH值信号转换成电信号,以此来控制电磁阀〔10〕的开闭状态,从而自动调节循环清洗Ⅰ槽〔1〕中溶液的PH值达到所需的范围。

现结合实施例对本实用新型作进一步说明。

图2为本实施例的正视图。

图3为右侧视图。

图4为单块斜板结构示图。

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