[其他]用氧化镁部分稳定的氧化锆无效
申请号: | 87100024 | 申请日: | 1987-01-03 |
公开(公告)号: | CN87100024A | 公开(公告)日: | 1987-08-12 |
发明(设计)人: | 爱德华·艾伦·布什;K·帕塔比尔阿;米·雷帝;小路易斯·斯坦利·索查 | 申请(专利权)人: | 康宁玻璃厂 |
主分类号: | C04B35/48 | 分类号: | C04B35/48 |
代理公司: | 上海专利事务所 | 代理人: | 刘庆玫 |
地址: | 美国纽约州*** | 国省代码: | 暂无信息 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 氧化镁 部分 稳定 氧化锆 | ||
1、一种部分稳定化的氧化锆材料体,主要包括结晶氧化锆、氧化硅和氧化镁,其特征是氧化硅为总体重量的约0.05~0.5%,而氧化镁为总体重量的约2.5~4.0%;
所述氧化锆材料体具有结晶态的显微结构,它主要包括:(1)包括氧化锆和大部分氧化镁的立方稳定化氧化锆晶粒,(2)立方晶粒内的四方晶氧化锆的不连续沉淀物,(3)立方晶晶粒内单斜晶氧化锆的不连续沉淀物,以及(4)立方晶晶粒边界上的单斜晶系氧化锆,每个所述四方系和单斜晶系的沉淀物有-基本上是椭球的形状,其长轴约为0.1~0.4微米,并且部分稳定的氧化锆材料体具有:
(a)一种显微结构,其中单斜晶系氧化锆体积百分含量约为10~20%,热膨胀系数在25~1000℃范围内为约(65~105)×10-7/℃,并且在暴露于热冲击后,室温25℃下测量,其断裂模数至少约为350MPa;或
(b)一种显微结构,其中单斜晶系氧化锆的体积百分含量约为20~60,在25~1000℃温度范围内的热膨胀系数约为(10×65)×10-7/℃,并在暴露于热冲击后,室温25℃测量,其断裂模数至少约为250MPa。
2、按权利要求1的氧化锆材料体,其特征是其中氧化镁含量为占重量的约3.0~4.0%。
3、按权利要求1的氧化锆材料体,其特征是其中氧化硅含量占重量的约0.05~0.25%,而氧化镁含量为占重量的约3.0~3.5%。
4、按权利要求1的氧化锆材料体,其特征是具有(a)部分的特征。
5、按权利要求2的氧化锆材料体,其特征是具有(a)部分的特征。
6、按权利要求3的氧化锆材料体,其特征是具有(a)部分的特征。
7、按权利要求1的氧化锆材料体,其特征是具有(b)部分的特征。
8、按权利要求2的氧化锆材料体,其特征是具有(b)部分的特征。
9、按权利要求3的氧化锆材料体,其特征是具有(b)部分的特征。
10、一种制造以氧化镁部分稳定氧化锆材料体的方法,其特征是。包括下列步骤:
(a)制备一种主要包含氧化镁粉末和氧化锆粉末的未烧结体,包含氧化锆粉末重量的约0.05~0.5%的氧化硅;
(b)将该物体加热到约1525~1800℃的烧结温度,并可选择地将该物体保持在该温度停留最多达约20小时;
(c)以150~600℃/小时的速率将该物体冷却至约1300~1450℃的第一冷却温度;
(d)以20~200℃/小时的速率将该物体冷却至约1000~1200℃的第二冷却温度;并可选择地使物体在该温度下时效;及
(e)以最大约为400℃/小时的速度将该物体冷却到室温;并可选择地
(f)将该物体重新加热到1000~1200℃范围的时效温度并在该温度进行时效;以及
(g)将该物体冷却至室温;使步骤(d)和(f)中的总时效时间为10~150小时。
11、按权利要求10的方法,其特征是其中氧化锆材料物体的氧化镁含量为占重量的约2.5~4.0%,以及其中步骤(a)包括粉末和湿磨步骤,使其平均粒度约为0.5~2.0微米和将粉末压成形的步骤。
12、按权利要求10的方法,其特征是:
(1)该物体的氧化镁含量为重量的约2.5~4.0%;
(2)冷却步骤(c)是以200~450℃/小时的速度完成的;
(3)冷却步骤(d)是以约50~100℃/小时的速度完成的,并包含了在第二冷却温度下将该物体时效10~150小时;
(4)冷却步骤(e)是以约200~300℃/小时速度完成的;以及
(5)可选择的步骤(f)和(g)没有执行。
13、按权利要求12的方法,其特征是其中的冷却步骤(d)包括一个10~20小时的时效阶段。
14、按权利要求12的方法,其特征是其中的冷却步骤(d)包括一个20~80小时的时效阶段。
15、按权利要求12的方法,其特征是其中第一冷却温度约为1400℃和第二冷却温度约为1100℃。
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