[其他]光敏组成物及水溶液中可显影的热稳定负像

权利要求书

1、一种负型抗光蚀剂组成物，其特征在于它含有酸硬化树脂体系和选自于一组卤代有机化合物的足够量的光致酸发生物，该卤代有机化合物选择性地吸收约210至约299毫微米范围内的光化射线，它可与酸硬化树脂体系相容，在水基溶液中可显影，并可以在远紫外线照射时生成一种氢卤酸，在温度升高时交联酸硬化树脂，形成热稳定的负象。

2、根据权利要求1所述的负型抗光蚀剂组成物，其特征在于光致酸发生物存在于组成物中的浓度：在照射剂量至少为10mJ/cm²时其浓度为0.1至10%（重量）。

3、根据权利要求2所述之负型抗光蚀剂组成物，其特征在于光致酸发生物存在于组成物中的浓度：在照射剂量至少为10mJ/cm²时其浓度为0.1至5%（重量）。

4、根据权利要求1所述之负型抗光蚀剂组成物，其特征在于光致酸发生物是卤代有机化合物，它选自于以下一组化合物：

1，1-双〔对-氯苯基〕-2，2，2，-三氯乙烷;

1，1-双〔对-甲氧苯基〕-2，2，2，-三氯乙烷;

1，2，5，6，9，10-六溴环十二烷;

1，10-二溴癸烷;

1，1-双〔对-氯苯基〕-2，2，二氯乙烷;

4，4′-二氯-α（三氯甲基）二苯基甲醇或;

1，1-双〔对-氯苯基）-2，2，2-三氯乙醇;

六氯二甲基砜;

2-氯-6-（三氯甲基）吡啶;

0，0-二乙基-0-（3，5，6-三氯-2-吡啶基）硫代磷酸酯;

1，2，3，4，5，6-六氯环己烷;

N（1，1-双〔对-氯苯基〕-2，2，2-三氯乙基）乙酰胺;

三〔2，3-二溴丙基〕异氰脲酸酯;

1，1-双〔对-氯苯基〕-2，2-二氯乙烯;

以及它们的异构物，类似物，同系物和残余的化合物。

5、根据权利要求3所述之负型抗光蚀剂组成物，其特征在于光致酸发生物选自于以下一组化合物：

1，1-双（对-氯苯基）-2，2，2-三氯乙烷;

1，1-双（对-甲氧苯基）-2，2，2-三氯乙烷;

1，1-双（对-氯苯基）-2，2-二氯乙烷;

三〔2，3-二溴丙基〕异氟脲酸酯;

以及它们的异构物，类似物，同系物及其残余的化合物。

6、在表面上制备负象的过程，其特征在于它包括：酸硬化树脂体系和光致酸发生物（能选择性吸收约210至约299毫微米范围内的光化射线，与酸硬化树脂体系相容，在水中可显影）在基体表面上的沉积;在温度约90℃时微焙沉积的光敏溶液30分钟形成涂层;部分涂层用远紫外线光化辐射源照射;用水基显影剂显影涂层未照射部分;以及加热照射过的涂层至高温，形成在温度超过200℃时热稳定的负像。

7、负型抗光蚀剂组成物，其特征在于它含有酸硬化树脂系统和足够量的光致酸发生物，该化合物吸收X-射线，它可以与酸硬化树脂体系相容，它可以用水基溶液除去，并在远X-射线照射时产生酸在高温时交联酸硬化树脂，形成热稳定负像。

8、根据权利要求7所述之负型X-射线抗光蚀剂组成物，它含有酸硬化树脂和至少10%（重量）的光致酸发生物，该化合物选自以下一组化合物：

1，-双〔对-氯苯基〕-2，2，2-三氯乙烷，

4，4′-二氯-α-（三氯甲基）二苯基甲醇，

0，0-二乙基-0-（3，5，6-三氯-2-吡啶基）硫代磷酸酯

1，2，3，4，5，6-六氯环己烷（B-异构物）

N（1，1-双〔对-氯苯基〕-2，2，2，-三氯乙基）乙酰胺

三〔2，3，-二溴丙基〕异氰脲酸酯以及

三〔2，3-二氯丙基〕磷酸酯

9、制备解像力为约0.2至1微米的热稳定的负像的过程，其特征在于它包括：使酸硬化树脂体系和至少为10%（重量）的适合于X-射线照射的、能与光敏组成物相容并能在水基溶液显影的光致酸发生物的光敏溶液在表面上沉积;在温度为90℃时将光敏溶液微焙30分钟形成涂层;将部分涂层用X-射线照射，用水基显影剂使涂层的未照射部分显影;并加热照射后的涂层至高温，形成解像力高的负像，该负像在温度超过200℃时是热稳定的。