[发明专利]印刷线路板的图形抗蚀法无效

专利信息
申请号: 87100339.2 申请日: 1987-01-19
公开(公告)号: CN1021874C 公开(公告)日: 1993-08-18
发明(设计)人: 哈罗德·莱克;保罗·E·格兰蒙特 申请(专利权)人: 福克斯保罗公司
主分类号: H05K3/00 分类号: H05K3/00
代理公司: 中国专利代理(香港)有限公司 代理人: 马铁良,肖掬昌
地址: 美国马*** 国省代码: 暂无信息
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摘要:
搜索关键词: 印刷 线路板 图形 抗蚀法
【权利要求书】:

1、一种在印刷线路板基板上的光可处理层制作图形的方法,其特征包括:

对所需图形进行数字化表示,

准备一块基板,其上层的光可处理材料对投射的第一光谱能量敏感,

将一层对投射到基板的第二光谱能量敏感的未曝光、未显影的照相成像胶片涂敷在光可处理层上,

用一个由所述数字化表示控制的自动光绘图仪发射的一束其波长远长于紫外光的低能辐射束有选择地将基板上的所说胶片曝光,使胶片受到激发而不影响下伏的光可处理材料层,

将基板上的胶片显影,

通过在所说胶片层显影出的图像作为在该处的掩模,使光可处理层在基板上基本均匀地分布的所说第一光谱的能量下曝光,

从所述基板上剥去所说胶片层,以及

处理所说光可处理层,

从而可用低能量绘制创造出高分辨率的可检查在板掩模。

2、权利要求1的方法,其特征在于曝光后处理所说光可处理层是通过化学方法除去所说光可处理层的已曝光或未曝光的部分来完成的。

3、权利要求1的方法,其特征在于所说第一光谱是紫外光,而所说第二光谱是可见光。

4、权利要求1的方法,其特征在于所说光绘图仪是一个X-Y绘图仪。

5、权利要求1的方法,其特征在于所说光绘图仪是一个带有可触发辐射源的光栅扫描绘图仪。

6、权利要求5的方法,其特征在于所说源以八角形形状加到胶片上,扫描间距要使得相邻扫描的八角形的边彼此对准和基本上接触,以便形成的直边线条与扫描方向成0°、45°或90°的角度。

7、权利要求1的方法,其特征在于所说胶片有一乳胶侧面,并在所说光可处理层相邻处制备该有乳胶侧面。

8、权利要求1的方法,其特征在于所说胶片是干银胶片。

9、权利要求1的方法,其特征在于所说胶片是热可显影胶片。

10、权利要求1的方法,其特征在于所说胶片是有一乳胶侧面并在所说光可处理层相邻处制备该有乳胶侧面的热可显影胶片。

11、权利要求1的方法,其特征在于所说基板包括金属。

12、一种为基板用的光可处理层的制作图形的方法,其特征包括:对所需图形进行数字化表示,

将一层对投射的第一光谱能量敏感的光可处理层和一层对投射的第二光谱能量敏感的未曝光、未显影的照相成像胶片层层压在一起以形成一个组合层,

将所说组合层以胶片层在上地方式加到一块基板上,

用一个由所述数字化表示控制的自动光绘图仪发射的一束其波长远长于紫外光的低能辐射有选择地将所说胶片层曝光,使胶片受到激发而不影响下伏的光可处理材料层,

将基板上的胶片显影,

通过在所说胶片层中显影出的图像作为在该处的掩膜,使光可处理层在基板上基本均匀地分布的所说第一光谱中的能量下曝光,

将所述基板上的所述胶片剥离基板,以及

处理所说光可处理层,

从而可用低能量绘制创造出高分辨率的可检查的板掩模。

13、权利要求12的方法,其特征在于曝光后处理所说光可处理层是通过化学方法除去所说光可处理层的已曝光或未曝光部分。

14、权利要求12的方法,其特征在于所说第一光谱是紫外光,而所说第二光谱是可见光。

15、权利要求12的方法,其特征在于所说光绘图仪是一个X-Y光绘图仪。

16、权利要求12的方法,其特征在于所说光绘图仪是一个带有可触发辐射光源的光栅扫描绘图仪。

17、权利要求16的方法,其特征在于光源以八角形形状加到胶片上,扫描间距要使得八角形的边彼此对准和基本上接触,以便形成的直边线条与扫描方向成0°、45°和90°的角度。

18、权利要求12的方法,其特征在于所说胶片有一乳胶侧面且在所说光可处理层相邻处制备该有乳胶侧面。

19、权利要求12的方法,其特征在于所说胶片是干银胶片。

20、权利要求12的方法,其特征在于所说胶片是热可显影胶片。

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