[发明专利]非晶硅太阳电池背电极的刻蚀方法无效
申请号: | 87101127.1 | 申请日: | 1987-11-04 |
公开(公告)号: | CN1004315B | 公开(公告)日: | 1989-05-24 |
发明(设计)人: | 钟伯强;施亚玲;肖兵;张秀荣 | 申请(专利权)人: | 中国科学院上海硅酸盐研究所 |
主分类号: | H01L31/18 | 分类号: | H01L31/18;H01L21/28;C23F1/32;C23F15/00 |
代理公司: | 中国科学院上海专利事务所 | 代理人: | 聂淑仪 |
地址: | 上海市*** | 国省代码: | 上海;31 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 非晶硅 太阳电池 电极 刻蚀 方法 | ||
1、一种用激光-化学腐蚀刻蚀a-Si太阳电池背电极的方法,其特征在于:
A.预制备防腐液及腐蚀液;
B.涂敷防腐层:在室温,相对湿度≤80%条件下,将防腐液均匀涂敷在蒸涂好金属电极的样品上,并干燥;
C.激光刻蚀防腐层:用Nd+-yAG激光器刻蚀防腐层,条件:用1.06微米波长的激光,调Q频率1-10千赫,扫描速度5-160毫米/秒,电源电压235-255伏,电源11-20安;
D.化学腐蚀背电极:将激光刻蚀好的样品,放入25-40℃腐蚀液中,至背电极完全腐蚀干净;
E.将化学腐蚀过的样品,浸入有机溶剂中,至完全除去防腐层。
2、根据权利要求1的激光-化学腐蚀刻蚀a-Si太阳电池背电极的方法,其特征在于:预制备溶液的配制条件是:
A.防腐液:10克沥青,虫胶、蜂蜡各1克溶解于100毫升有机溶剂中,放置24小时,过80目筛;
B.腐蚀液:氢氧化钠1-3克,高锰酸钾5-15克,溶解于100-300毫升去离子水中70℃,至全溶。
3、根据权利要求2的方法,其特征在于所述的配制防腐液的有机溶剂是苯,甲苯,松节油。
4、根据权利要求1的方法,其特征在于涂敷防腐层的厚度是0.5-3微米。
5、根据权利要求1的方法,其特征在于除去防腐层的有机溶剂是苯,甲苯,石油醚。
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H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L31-00 对红外辐射、光、较短波长的电磁辐射,或微粒辐射敏感的,并且专门适用于把这样的辐射能转换为电能的,或者专门适用于通过这样的辐射进行电能控制的半导体器件;专门适用于制造或处理这些半导体器件或其部件的方法或
H01L31-02 .零部件
H01L31-0248 .以其半导体本体为特征的
H01L31-04 .用作转换器件的
H01L31-08 .其中的辐射控制通过该器件的电流的,例如光敏电阻器
H01L31-12 .与如在一个共用衬底内或其上形成的,一个或多个电光源,如场致发光光源在结构上相连的,并与其电光源在电气上或光学上相耦合的