[其他]玻璃上涂层无效
申请号: | 87101283 | 申请日: | 1987-12-24 |
公开(公告)号: | CN87101283A | 公开(公告)日: | 1988-09-28 |
发明(设计)人: | 迈克尔·斯图亚特·詹金斯;安德鲁·弗拉瑟尔·希姆普森;戴维德·安索尼·波特 | 申请(专利权)人: | 皮尔金顿公共有限公司 |
主分类号: | C03C17/30 | 分类号: | C03C17/30;C03C17/34 |
代理公司: | 中国国际贸易促进委员会专利代理部 | 代理人: | 陈季壮,罗英铭 |
地址: | 英国默*** | 国省代码: | 暂无信息 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 玻璃 涂层 | ||
本发明涉及涂层、特别是涉及底层的生成,该底层用于抑制虹彩、并用以保护对碱金属离子敏感的覆盖层,阻止碱金属离子从底层玻璃表面向覆盖层迁移。
G.B专利第2031756B号是关于反射红外线的薄透明半导体涂层,这种涂层用以改善窗玻璃的绝缘性能,而且它本身是导电的。可用作电阻加热器,例如除去窗子上的冰或冷凝水。按照BG专利2031756B,由于以下事实,这种涂层的应用受到限制,即它具有虹彩色调,尤其是在反射光时;这种虹彩效果美观的角变是远不能令人满意的,而且由于虹彩的颜色随涂层厚度的轻微变化而变化,这就使问题更加严重。GB2031756B曾提出克服虹彩问题的办法,即在半导体涂层之下层积适宜的减轻虹彩的底层,并建议作为优选的底层是折光指数为1.7到18范围、厚度在64nm到80nm范围的底层。按照GB2031756B,该底层可籍适当组分混合物共沉积来形成,例如84±3%的氮化硅和剩余部分为二氧化硅(叫作氧氮化硅)的混合物。这种氧氮化硅膜可用硅源(例如SiH4,(CH3)2SiH2,(C2H5)2SiH2,(CH3)4Si,SiCl4,SiBr4)、氧源(例如O2,H2O,N2O)和氮源(例如N2H4,NH3,HN3CH3NHNH2,(CH3)2NNH2)或氧源和氮源一起(NO,NH2OH,N2H4H2O)在热玻璃上于500℃到600℃的温度下通过化学气相沉积来形成。
尽管需要一种适宜的虹彩减轻底层,但是在GB2031756B专利中所提出的底层在商业上尚未应用到重要的程度,这是由于下述困难造成的,特别是所需沉积时间长,用已知方法形成足够质量和厚度的底层有困难。
GB专利说明书2163146A,是关于在玻璃表面上形成隔离涂层,用以防止碱金属离子从玻璃迁移至对碱金属离子如氧化锡敏感的覆盖层。该专利描述透明隔离涂层的形成,通过在气体给电子化合物的存在下在热玻璃表面上高于600℃的温度使硅烷裂解,形成具有良好透光性且具有优异隔离性的透明隔离涂层;已发现,给电子化合物的存在可使玻璃上的氧掺入涂层,这样就在玻璃表面形成一层厚达50nm的透明隔离涂层。
GB专利说明书2163146A的方法中所用的给电子化合物,或是含有键合电子,或是作为独对电子,这些电子可授予适宜受体分子的电子结构。曾发现,使用给电子化合物结果使玻璃中的氧同硅烷中的硅在玻璃上形成透明的隔离层。尽管机理还不清楚,但可以确信该过程是包括给电子化合物在玻璃表面上的吸附。通常喜欢用不含氧的给电子化合物例如乙烯、或是含有一些氧原子的给电子化合物,例如一氧化碳和醇,通常被认为是还原剂。
由于透明隔离涂层可在无游离氧且在通常被认为是氧化剂化合物的存在下制备,因此该隔离涂层可涂覆在经过熔融金属浴上的浮动玻璃带上不致发生意外氧化的危险。
遗憾的是,当使用无氧给电子化合物来缓解硅烷在到达玻璃表面之前被氧化的危险和缓解反应气氧化承载玻璃带的熔融金属浴时,GB专利第2031756B所推荐的形成较厚的虹彩减轻底层玻璃中就没有足够的氧提供,而较厚的底层是由含氧给电子化合物形成的,例如采用含氧给电子化合物如二氧化碳,曾发现硅烷与二氧化碳并用,其结果不是形成耐久性差的薄涂层,就是当试图使涂层变厚时会形成白雾状沉积物。
此外,当按照GB2163146A硅烷和乙烯并用以期形成透明度非常高(例如光透过率不低于底玻璃的2%)隔离涂层时,已发现涂层的隔离性能不能满足某些应用。
这就需要一种方法适合于在浮动玻璃生产线上进行工业操作,以生产一种虹彩减轻的底层,这一方法已在GB专利2031756B中提出。还需要一种方法适合于在浮动玻璃生产线上进行工业操作,以生产作为有效隔离层的涂层,这种涂层对碱金属离子从玻璃中迁移出去是有效地隔层,同时它还有非常高的透明度。
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