[发明专利]形成在铁基上的涂层及其形成方法无效
申请号: | 87101667.2 | 申请日: | 1987-02-28 |
公开(公告)号: | CN1032486C | 公开(公告)日: | 1996-08-07 |
发明(设计)人: | 石井乔;小浜一;矢部久雄 | 申请(专利权)人: | 东芝株式会社 |
主分类号: | C23C22/24 | 分类号: | C23C22/24;C23C18/12 |
代理公司: | 上海专利商标事务所 | 代理人: | 吴明华 |
地址: | 日本神*** | 国省代码: | 暂无信息 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 形成 铁基上 涂层 及其 方法 | ||
1.一种形成在一铁基金属的基体的表面上的涂层,它包括一含有作为主要成份的氧化铬(Cr2O3)的表层,其特征在于还包括一含有在所述表层里的氧化铬和所述基体之间的反应生成物并形成于所述表层和所述基体之间的界面上的中间层。
2.根据权利要求1所述的涂层,其特征在于所述表层有一1到50微米的厚度。
3.根据权利要求1所述的涂层,其特征在于所述表层有一1到10微米的厚度。
4.根据权利要求1所述的涂层,其特征在于所述表层有一2到6微米的厚度。
5.根据权利要求1所述的涂层,其特征在于所述中间层有一0.5到3.0微米的厚度。
6.根据权利要求1所述的涂层,其特征在于所述中间层含有FeO·Cr2O3和Cr2O3。
7.一种形成由权利要求1所确定的涂层的方法,其特征在于它包括下述步骤:
(1)含有作为主要成份的氧化铬(CrO3)的铬化合物溶液通过涂或浸的手段涂覆于基体的表面;
(2)将所述基体在500℃到600℃的温度下进行烘焙,在此加热所述铬化合物使之转变为氧化铬(Cr2O3);
(3)多次重复步骤(1)和(2)。
8.根据权利要求7所述的方法,其特征在于所述铬化合物溶液可以由铬化合物熔盐代替。
9.根据权利要求7所述的方法,其特征在于,所述铬化合物溶液的浓度最好在10—85%之间。
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