[发明专利]形成在铁基上的涂层及其形成方法无效

专利信息
申请号: 87101667.2 申请日: 1987-02-28
公开(公告)号: CN1032486C 公开(公告)日: 1996-08-07
发明(设计)人: 石井乔;小浜一;矢部久雄 申请(专利权)人: 东芝株式会社
主分类号: C23C22/24 分类号: C23C22/24;C23C18/12
代理公司: 上海专利商标事务所 代理人: 吴明华
地址: 日本神*** 国省代码: 暂无信息
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要:
搜索关键词: 形成 铁基上 涂层 及其 方法
【权利要求书】:

1.一种形成在一铁基金属的基体的表面上的涂层,它包括一含有作为主要成份的氧化铬(Cr2O3)的表层,其特征在于还包括一含有在所述表层里的氧化铬和所述基体之间的反应生成物并形成于所述表层和所述基体之间的界面上的中间层。

2.根据权利要求1所述的涂层,其特征在于所述表层有一1到50微米的厚度。

3.根据权利要求1所述的涂层,其特征在于所述表层有一1到10微米的厚度。

4.根据权利要求1所述的涂层,其特征在于所述表层有一2到6微米的厚度。

5.根据权利要求1所述的涂层,其特征在于所述中间层有一0.5到3.0微米的厚度。

6.根据权利要求1所述的涂层,其特征在于所述中间层含有FeO·Cr2O3和Cr2O3

7.一种形成由权利要求1所确定的涂层的方法,其特征在于它包括下述步骤:

(1)含有作为主要成份的氧化铬(CrO3)的铬化合物溶液通过涂或浸的手段涂覆于基体的表面;

(2)将所述基体在500℃到600℃的温度下进行烘焙,在此加热所述铬化合物使之转变为氧化铬(Cr2O3);

(3)多次重复步骤(1)和(2)。

8.根据权利要求7所述的方法,其特征在于所述铬化合物溶液可以由铬化合物熔盐代替。

9.根据权利要求7所述的方法,其特征在于,所述铬化合物溶液的浓度最好在10—85%之间。

下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于东芝株式会社,未经东芝株式会社许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/87101667.2/1.html,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top