[其他]光阀中聚焦偏转用的分开式偏移环无效
申请号: | 87103420 | 申请日: | 1987-04-20 |
公开(公告)号: | CN87103420A | 公开(公告)日: | 1988-06-22 |
发明(设计)人: | 阿尔弗莱德·吉尔·卢森 | 申请(专利权)人: | 通用电气公司 |
主分类号: | H04N5/74 | 分类号: | H04N5/74 |
代理公司: | 中国国际贸易促进委员会专利代理部 | 代理人: | 赵芬民 |
地址: | 美国康*** | 国省代码: | 暂无信息 |
权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
摘要: | |||
搜索关键词: | 光阀中 聚焦 偏转 分开 偏移 | ||
1、一种改进的静电电子光学系统,是为使在具有矩形截面的射束整形孔径处形成的电子束成象,并在整个扫描区域保持一定的射束放大率和聚焦的同时使该电子束扫描被扫描的光栅区域用的,它包括:
一个具有两对平行极板的矩形截面的偏转电极组件;
至少两个在上述偏转电极组件的轴线上相隔一定距离的园柱形电极;以及
一个供电子束射击的电极;上述的至少两个园柱形电极是在不同的电压下工作,以便产生畸变校正透镜并为电子光学系统的整个放大和聚焦功能提供单独控制。
2、如权利要求1所述的改进的静电电子光学系统,其中的偏转电极组件具有一正方形的截面,而且园柱形电极的直径和偏转电极组件的平行极板间间距之比,是在最小1.1到最大为1.25的范围内。
3、如权利要求2所述的改进的静电电子光学系统,其中最靠近上述电子束射击电极的园柱形电极通常是盆形的,它具有沿着轴线方向趋近上述电子束射击电极的从大到小的直径,并且进一步还具有一个可校正射束偏转中畸变的几何形状的孔径。
4、如权利要求3所述的改进的静电电子光学系统,其中所述的孔径是园形的。
5、如权利要求3所述的改进的静电电子光学系统,其中所述的孔径是矩形的。
6、如权利要求3所述的改进的静电电子光学系统,其中所述的孔径是正方形的。
7、如权利要求6所述的改进的静电电子光学系统,其中所述的正方形孔径是同上述扫描光栅区域轴向准直的。
8、如权利要求6所述的改进的静电电子光学系统,其中所述的正方形孔径是相对轴线旋转45°并与上述扫描光栅区域轴向准直的。
9、一种改进的条纹暗场型光阀,它包括:
一个真空室,该真空室有一个输入窗口;一个聚焦和偏转用的缸体;一个后护罩;一个包括输出窗口的面板;一个在上述后护罩和上述面板之间空间的一部分围出的贮液槽;
一个位于上述输入窗口的中心孔中的电子枪;
一个支承在上述聚焦偏转缸体中的聚焦偏转组件,上述聚焦偏转组件有两对平行极板;
一个部分地凸进上述贮液槽中的转盘,它在靠近上述电子枪的表面具有一个电极;
一种在上述贮液槽中的液体,该波体涂复在上述转盘上,上述电子枪产生的电子束被施加在上述聚焦偏转组件上的电压偏转,而对由涂复到上述转盘上的液体形成的光栅进行扫描;
一组在上述聚焦偏转组件和上述转盘之间分件设置的偏移环组件,该组件至少包括第一个偏移环部分和一个在轴向与其隔开的第二个偏移环部分,所述第一个偏移环部分在第一种电压下工作的与上述聚焦偏转组件相邻;上述第二个偏移环部分与上述转盘相邻并在第二种电压下工作;上述聚焦偏转组件同上述第一个偏移环结合,相互作用形成第一个静电透镜,用来校正由施加到上述聚焦偏转组件上的偏转电场产生的电子束畸变;上述第一个偏移环与第二个偏移环相互作用形成第二个静电透镜,用来控制电子束的聚焦;并且上述第二个偏移环同上述转盘上的上述电极结合至少形成一个第三静电透镜,用来控制电子束的尺寸。
10、一种如权利要求9所述的改进的条纹暗场型光阀,其中所述第一偏移环的直径同聚焦偏转电极组件的平行极板间的间距之比,在最小为1.1到最大为1.25的范围内。
11、一种如权利要求10所述的改进的条纹暗场型光阀,其中所述的分件设置的偏移环组件在所述的第二偏移环部分和所述转盘之间包括第三个偏移环部分,它具有一个可进一步校正电子束畸变的几何形状的孔径。
12、一种如权利要求10所述的改进的条纹暗场型光阀,其中所述的分件设置的偏移环组件以这样的电位差工作,它可使所述转盘上的所述电极能采用一较低的射击电压,以便减小电子束对所述转盘上的上述液体的破坏。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于通用电气公司,未经通用电气公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服】
本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/87103420/1.html,转载请声明来源钻瓜专利网。